-
题名不同阳极电位下铝青铜的电化学阻抗谱研究
被引量:5
- 1
-
-
作者
于辉
董飒英
徐海波
孙明先
-
机构
七二五研究所青岛分部
-
出处
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第1期35-40,共6页
-
基金
"十五"重点预研 (YKO1 0 40 1 )资助
-
文摘
应用电化学阻抗谱(EIS)方法研究了铝青铜的腐蚀溶解机制.结果表明,在活性溶解区,铝青铜以氯化络合物的形式溶解,并且CuCl2的扩散是该溶解过程的控制步骤;而在过渡区,铝青铜的EIS谱出现第2个容抗弧,这是由于CuCl络合物和氧化腐蚀产物在电极表面沉积成膜所致;在极限电流区,腐蚀产物膜产生破损点,导致电极表面快速溶解,产生严重的点蚀,这就是在该区域极化电位下EIS出现感抗弧的原因.
-
关键词
电化学阻抗谱
铝青铜
腐蚀溶解机制
阳极电位
氯化络合物
点蚀
铜合金
-
Keywords
Al-bronze, Electrochemical impedance spectroscopy (EIS), Chloride complex compounds, Pit corrosion
-
分类号
TG172
[金属学及工艺—金属表面处理]
-