光学镀膜仪的监控稳定性研究

光学镀膜仪的膜厚监控稳定性影响着镀膜的合格率,并且对镀膜经验控制,膜系修正和自动化系统开发有重要的意义。对真空镀膜仪进行4种薄膜系列的膜厚监控实验,建立一套稳定性评价体系,获取镀膜仪的稳定性指标。将修正的方差分析方法、不确定度分析方法、标准偏差与相对偏差方法和线性回归方法等综合起来,用6项指标从各个方面对光学薄膜厚度监控的稳定性做出评判,甚至对膜厚控制精度和特征波长做出分析。实验结果表明:上述的综合评价体系是合理的;多层膜比单层膜的监控稳定性稍差一些,膜层材料对稳定性的影响比较大,膜厚控制精度的标准偏差≤0.45%;薄膜层数对膜厚控制精度没有明显的影响,甚至多层膜比少层膜的控制精度要高,出现了“中心层”效应;用线性回归方法可以估计实际镀膜的特征波长长移量。