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离子色谱-膜去溶-ICP-MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质 被引量:13
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作者 李艳芬 刘英 童坚 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期104-106,共3页
灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用H_2O_2溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HNO_3洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn... 灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用H_2O_2溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HNO_3洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90%~107%之间,检出限在0.001~0.5μg/g之间。 展开更多
关键词 痕量元素 高纯钨粉 离子色谱 阳离子交换柱 膜去溶装置 电感耦合等离子体质谱
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