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膜-基复合材料界面剪应力的三维半解析计算 被引量:2
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作者 薛孟君 刘跃进 杨班权 《力学与实践》 CSCD 北大核心 2002年第5期50-53,共4页
采用影响系数法对膜-基复合材料的界面剪应 体,利用其平面边界作用单位力时的位移场解析解,力三维半解析进行了分析研究.利用三维有限元方法 得到基体的影响系数.结果表明,对膜-基复合材料对薄膜的影响系数进行了计算.将基体作为半无限... 采用影响系数法对膜-基复合材料的界面剪应 体,利用其平面边界作用单位力时的位移场解析解,力三维半解析进行了分析研究.利用三维有限元方法 得到基体的影响系数.结果表明,对膜-基复合材料对薄膜的影响系数进行了计算.将基体作为半无限大 界面剪应力进行三维半解析计算,克服了完全用三维有限元对其进行计算的限制,为该类问题的分析提供了新的途径. 展开更多
关键词 膜-基复合材料 界面 剪应力 三维半解析 有限元法
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膜-基复合材料界面剪应力分析的影响系数法 被引量:1
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作者 薛孟君 刘跃进 +1 位作者 刘国强 刘雪惠 《应用力学学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期113-115,共3页
提出了一种计算膜 基复合材料界面剪应力的新方法。将薄膜、基体分别作为二维和三维问题进行有限元计算 ,利用影响系数 ,以剪应力为未知量 ,求出同一点处薄膜、基体的位移。通过薄膜、基体在界面上位移相等的条件建立线性方程组 ,联立... 提出了一种计算膜 基复合材料界面剪应力的新方法。将薄膜、基体分别作为二维和三维问题进行有限元计算 ,利用影响系数 ,以剪应力为未知量 ,求出同一点处薄膜、基体的位移。通过薄膜、基体在界面上位移相等的条件建立线性方程组 ,联立求解 ,计算出界面剪应力。结果表明 ,本文提出的方法思路清晰 ,易于实现 ,精度令人满意 ,为膜 展开更多
关键词 膜-基复合材料 界面剪应力 影响系数法 强度分析
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Preparation of Composite Microporous Silica Membranes Using TEOS and 1,2-Bis(triethoxysilyl)ethane as Precursors for Gas Separation 被引量:2
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作者 漆虹 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第3期404-409,共6页
This paper reports on a new microporous composite silica membrane prepared via acid-catalyzed polymeric route of sol-gel method with tetraethylorthosilicate(TEOS)and a bridged silsesquioxane[1,2-bis(triethoxysilyl)eth... This paper reports on a new microporous composite silica membrane prepared via acid-catalyzed polymeric route of sol-gel method with tetraethylorthosilicate(TEOS)and a bridged silsesquioxane[1,2-bis(triethoxysilyl)ethane, BTESE]as precursors.A stable nano-sized composite silica sol with a mean volume size of^5 nm was synthesized. A 150 nm-thick defect-free composite silica membrane was deposited on disk support consisting of macroporous α-Al2O3 and mesoporousγ-Al2O3 intermediate layer by using dip-coating approach,followed by calcination under pure nitrogen atmosphere.The composite silica membranes exhibit molecular sieve properties for small gases like H2,CO2,O2,N2,CH4 and SF6 with hydrogen permeances in the range of(1-4)×10 -7mol·m -2·s -1·Pa -1(measured at 200°C,3.0×105 Pa).With respect to the membrane calcined at 500°C,it is found that the permselectivities of H 2 (0.289 nm)with respect to N2(0.365 nm),CH4(0.384 nm)and SF6(0.55 nm)are 22.9,42 and>1000,respectively, which are all much higher than the corresponding Knudsen values(H2/N2=3.7,H2/CH4=2.8,and H2/SF6=8.5). 展开更多
关键词 TETRAETHYLORTHOSILICATE 1 2-bis(triethoxysilyl)ethane composite silica membranes gas separation mo- lecular sieving
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