抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响

目的 :比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法 ,对陶瓷表面平滑度产生的影响。方法 :分别以SEM和粗糙度测试仪 ,对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析。试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法。结果 :SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似。经粗糙度测试仪测得的Ra值 ,抛光组为 0 .412 μm ,自上釉组为 0 .417μm。两者比较未见显著性差异 (P >0 .0 5 ) ,且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性。结论 :采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面。

自上釉陶瓷的成釉工艺研究

鉴于自上釉陶瓷配料中必须包含形成釉层所需的成份，推测ＣＡ 值介于１．７ ～２．２ 之间，并以景德镇传统配方为基础，外加少量活化剂，采取红外干燥研制出自上釉陶瓷。