刻蚀设备中射频功率全态输出技术的研究

本文主要讲述了刻蚀设备在进行工艺时,射频发生器产生的射频信号输出到自动匹配网络,然后输入到工艺腔室的下电极。在整个刻蚀过程中,反射功率无限小,射频功率全态输出,不仅损耗减少,而且可以提高刻蚀效率。

故障树分析法在RIE故障诊断中的应用

基于半导体刻蚀技术,对RIE(反应离子刻蚀)的技术原理和等离子启辉原理进行了阐述,概括介绍了故障树分析法,绘制了启辉故障的故障树,分析了造成该故障的各种原因,并根据维修经验介绍了APC(自动压力控制)故障和AMU(自动匹配网络)故障等一些典型因素的处理方法。