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低能电子轫致辐射的蒙特卡罗模拟 被引量:4
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作者 钦佩 唐斌 +1 位作者 傅玉川 何小海 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 2009年第6期337-340,共4页
应用低能电子束进行辐照加工需要采用自屏蔽结构来达到辐射防护的要求。自屏蔽防护层的功能是屏蔽由轫致辐射产生的光子。本工作利用蒙特卡罗应用程序EGSnrcMP模拟了低能电子束轰击钢和聚乙烯两种靶材的轫致辐射过程,比较和分析了轫致... 应用低能电子束进行辐照加工需要采用自屏蔽结构来达到辐射防护的要求。自屏蔽防护层的功能是屏蔽由轫致辐射产生的光子。本工作利用蒙特卡罗应用程序EGSnrcMP模拟了低能电子束轰击钢和聚乙烯两种靶材的轫致辐射过程,比较和分析了轫致辐射反射光子的能谱及角分布与靶材料种类、靶材料厚度之间的关系,为优化设计自屏蔽结构提供了基础数据。 展开更多
关键词 低能电子 轫致辐射 EGSnrcMP 自屏蔽防护
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