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Be靶制备技术研究
被引量:
2
1
作者
许国基
杜英辉
王瑞兰
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期399-400,共2页
介绍了Be靶制备的电阻加热法、滚轧法、静电振动法、离心沉淀法、聚集束溅射法等。结果显示 :电阻加热和滚轧制备自支撑Be靶的厚度范围分别为 2 0~ 970 μg/cm2 和 3 8~ 2 0 μm。
关键词
制备技术
自支撑be靶
聚焦束溅射
滚轧
退火
铍
靶
电阻加热
静电振动
离心沉淀
下载PDF
职称材料
题名
Be靶制备技术研究
被引量:
2
1
作者
许国基
杜英辉
王瑞兰
机构
中国原子能科学研究院核物理研究所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期399-400,共2页
基金
国家"8 63"高技术项目资助课题 (41 6 3 3 8)
文摘
介绍了Be靶制备的电阻加热法、滚轧法、静电振动法、离心沉淀法、聚集束溅射法等。结果显示 :电阻加热和滚轧制备自支撑Be靶的厚度范围分别为 2 0~ 970 μg/cm2 和 3 8~ 2 0 μm。
关键词
制备技术
自支撑be靶
聚焦束溅射
滚轧
退火
铍
靶
电阻加热
静电振动
离心沉淀
Keywords
self suporting Be foils
focused ion beam sputtering
rolling
annealing
分类号
TL503.4 [核科学技术—核技术及应用]
下载PDF
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作者
出处
发文年
被引量
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1
Be靶制备技术研究
许国基
杜英辉
王瑞兰
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002
2
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