投射余模的同调性质

通过投射模的定义和它的一些等价刻画及郝志峰给出的H-投射余模,介绍了H-余自由余模,以及它的一些简单的性质,进而讨论了投射余模和余自由余模的关系.最后,还给出了H-投射余模是余自由的相关条件,以及,当char(K)=0且H=K[x1,…,xn]o时,每个有限余生成H-余模均为投射余模的结论.

一类Hopf模结构的刻划

Hopf模是定义在双代数(Hopf代数)上的一类特殊模,在Hopf代数结构的研究方面起着重要作用.该文以Hopf代数H和Hopf同态集T的卡氏积为基底,构造了子双代数G上的Hopf模,并刻划了其基本性质.

有限HOPF-GALOIS余扩张(英文)

设H是有限维Hopf代数 ,C是右H 模余代数 ,R =C/CH+ 。如果C/R是M Galois余扩张且R及R H 关于内射余模满足Krull schmidt性质 ,我们证明了C是交叉余积的主要条件是CR 为自由余模。

拟余Noether余代数(英文)

引进了一类新的余代数即拟余Noether余代数 ,它是一类Noether代数的对偶余代数 ,并且推广了M .Y .Wang,Z .X .Wu (AlgebraColloquium ,1998,5 (1) :117～ 12 0 .)引进的conoether余代数 .重要结果是给出了这一类余代数的一系列特征性质及相关结果 :即C是右拟余Noether余代数当且仅当每个有限自由右C 余模是右拟余Noether余代数等价于每个有限余生成右C 余模是右拟余Noether余代数等价于每个有限余生成右C 余模拟有限余表示 .