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在纵向自由薄膜凝固期内温度分布的数值分析
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作者 段虞荣 RodolfoMonti +2 位作者 LuigiCarotenuto 李玉光 唐泽眉 《高校应用数学学报(A辑)》 CSCD 北大核心 1997年第4期457-466,共10页
考虑到薄膜表面的热通量主要是来自辐射,因而采用一个依赖时间的拟二维拟线性扩散方程的Stefan问题(混合初边值问题)作为该问题的数学模型.用一种具有Crank-Nicholson格式的无条件稳定的有限差分法来求解抛物... 考虑到薄膜表面的热通量主要是来自辐射,因而采用一个依赖时间的拟二维拟线性扩散方程的Stefan问题(混合初边值问题)作为该问题的数学模型.用一种具有Crank-Nicholson格式的无条件稳定的有限差分法来求解抛物型偏微分方程的定解问题.用追赶法求解离散化的三对角方程组,然后用预估校正法求解拟线性扩散方程,从而避免了求解非线性差分方程组.琥珀亚硝酸酯在纵向自由薄膜凝固期内的温度分布数值计算结果和凝固前沿动力学特性与实验结果彼此吻合. 展开更多
关键词 自由薄膜 凝固 温度分布 数值分析 薄膜
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功能性连续碳化硅自由薄膜可量产
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《工程塑料应用》 CAS CSCD 北大核心 2011年第8期23-23,共1页
厦门大学材料学院突破了具有光电特性的连续碳化硅(SiC)自由薄膜关键技术,制备出多种组分PCS先驱体,掌握了连续SiC自由薄膜不熔化交联预处理与高温裂解烧结的工艺。目前,该技术已申报6项国家发明专利,并形成了连续SiC自由薄膜材... 厦门大学材料学院突破了具有光电特性的连续碳化硅(SiC)自由薄膜关键技术,制备出多种组分PCS先驱体,掌握了连续SiC自由薄膜不熔化交联预处理与高温裂解烧结的工艺。目前,该技术已申报6项国家发明专利,并形成了连续SiC自由薄膜材料小批量生产能力。 展开更多
关键词 自由薄膜 碳化硅 功能 国家发明专利 薄膜材料 光电特性 厦门大学 高温裂解
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功能性连续碳化硅自由薄膜可量产
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《新材料产业》 2011年第8期87-87,共1页
据报道,厦门大学材料学院日前突破了具有光电特性的连续碳化硅(SiC)自由薄膜关键技术,制备出多种组分PCS先驱体,掌握了连续SiC自由薄膜不熔化交联预处理与高温裂解烧结的工艺。目前,该技术已申报6项国家发明专利,并形成了连续Si... 据报道,厦门大学材料学院日前突破了具有光电特性的连续碳化硅(SiC)自由薄膜关键技术,制备出多种组分PCS先驱体,掌握了连续SiC自由薄膜不熔化交联预处理与高温裂解烧结的工艺。目前,该技术已申报6项国家发明专利,并形成了连续SiC自由薄膜材料小批量生产能力。 展开更多
关键词 自由薄膜 碳化硅 功能 国家发明专利 薄膜材料 光电特性 厦门大学 高温裂解
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自由无束缚铝薄膜的高温变形和断裂行为
4
作者 周清 王浩伟 伊藤吾朗 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期304-307,共4页
进行了7~500μm厚度的自由无束缚铝合金薄膜在高温和恒载荷下的蠕变实验,研究了高温蠕变速率与薄膜厚度和晶粒大小的关系.在变形机理图中表示了该实验的位置,分析了变形的机理;观察了蠕变断口的形貌,分析了蠕变寿命与蠕变速率的关系.... 进行了7~500μm厚度的自由无束缚铝合金薄膜在高温和恒载荷下的蠕变实验,研究了高温蠕变速率与薄膜厚度和晶粒大小的关系.在变形机理图中表示了该实验的位置,分析了变形的机理;观察了蠕变断口的形貌,分析了蠕变寿命与蠕变速率的关系.结果表明,自由无束缚薄膜的蠕变规律随厚度(h)和晶粒尺寸(d)的变化而变化,在h/d<1时,蠕变速率与厚度和晶粒大小有较强的依存关系,显示不同于块状材料的特征. 展开更多
关键词 铝合金 自由薄膜 厚度 晶粒大小 蠕变 断裂
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具有低表面自由能有机介电薄膜的制备及表征 被引量:3
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作者 刘应辉 康志新 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1777-1782,共6页
通过自主开发的有机镀膜技术在Mg-Mn-Ce镁合金表面制备了具有低表面自由能和较高介电常数的有机纳米薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)分析了表面有机镀膜过程的反应机理,借助傅里叶变换红外(FT-IR)光谱进一步确认表面有机膜层的存在,采用... 通过自主开发的有机镀膜技术在Mg-Mn-Ce镁合金表面制备了具有低表面自由能和较高介电常数的有机纳米薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)分析了表面有机镀膜过程的反应机理,借助傅里叶变换红外(FT-IR)光谱进一步确认表面有机膜层的存在,采用接触角测量仪测定了有机薄膜的蒸馏水接触角和表面自由能变化,使用椭圆偏振光谱仪研究了薄膜的厚度,并借助精密阻抗分析仪评价了薄膜的介电性能.有机镀膜后镁合金表面形成了一层纳米级厚度的有机薄膜,接触角从基体的70.8°上升至150.5°,表面自由能从基体的37.96 mJ·m^(-2)降低到1.57 mJ·m^(-2),镁合金表面从亲水性转变为疏水性;薄膜的厚度和质量随有机镀膜时间延长先增加后有所减小,在镀膜20 min时薄膜性能最佳,此时膜重达到23.5μg·cm^(-2),膜厚最大为147.48nm,其相对介电常数也达到最大,在1 kHz下可达24.922. 展开更多
关键词 有机镀膜:纳米薄膜 疏水:表面自由能:介电薄膜
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TiNiPd形状记忆合金自由薄膜的制备方法
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《现代材料动态》 2006年第6期19-19,共1页
一种TiNiPd形状记忆合金自由薄膜的制备方法,用于材料制备技术领域。将玻片的薄膜面粘在透明胶带上,用精密砂轮将胶带和薄膜连玻片进行切割,将粘附薄膜的胶带在乙酸异戊酯和三氯甲烷混合溶液中浸泡,用镊子将薄膜和透明胶带分离,并... 一种TiNiPd形状记忆合金自由薄膜的制备方法,用于材料制备技术领域。将玻片的薄膜面粘在透明胶带上,用精密砂轮将胶带和薄膜连玻片进行切割,将粘附薄膜的胶带在乙酸异戊酯和三氯甲烷混合溶液中浸泡,用镊子将薄膜和透明胶带分离,并去除附着于薄膜表面的稠厚粘液,再把薄膜浸入乙酸异戊酯溶液中,彻底溶去薄膜表面的残留粘液, 展开更多
关键词 形状记忆合金 自由薄膜 制备方法 乙酸异戊酯 透明胶带 材料制备技术 混合溶液 薄膜表面 三氯甲烷 行切割
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聚碳硅烷先驱体法制备连续SiC自由膜研究 被引量:2
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作者 姚荣迁 冯祖德 +3 位作者 余煜玺 李思维 陈立富 张立同 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1446-1449,共4页
以聚碳硅烷(PCS)为先驱体,通过自行设计的喷膜板熔融纺出连续PCS自由薄膜,并对其进行氧化交联与高温裂解烧结可制得连续SiC自由薄膜。用扫描电镜分析薄膜表面和横断面的形貌,通过红外光谱(FTIR)分析氧化交联后薄膜的结构,通过... 以聚碳硅烷(PCS)为先驱体,通过自行设计的喷膜板熔融纺出连续PCS自由薄膜,并对其进行氧化交联与高温裂解烧结可制得连续SiC自由薄膜。用扫描电镜分析薄膜表面和横断面的形貌,通过红外光谱(FTIR)分析氧化交联后薄膜的结构,通过拉曼光谱(Raman spectroscopy)、X射线衍射(XRD)与场发射高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对薄膜进行微观分析。结果表明,熔融纺膜与聚碳硅烷先驱体法相结合可制得均匀、致密的连续β-SiC自由薄膜,其厚度可通过调节喷膜板的喷膜口尺寸大小和纺膜速度进行控制,薄膜的厚度大约在10~30μm。 展开更多
关键词 聚碳硅烷 先驱体法 碳化硅 自由薄膜
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空气环境下退火温度对连续SiC自由膜结构与发光特性的影响
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作者 姚荣迁 冯祖德 +2 位作者 林宏毅 张冰洁 余煜玺 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第S1期241-244,249,共5页
采用熔融纺膜与先驱体转化法相结合制备出连续SiC自由薄膜,研究薄膜在1300,1400,1500℃温度下空气退火处理的氧化行为,以及退火温度对薄膜微观结构、光致发光特性(PL)、硬度和电阻率的影响。结果表明,SiC薄膜在1300℃具有较佳的抗氧化... 采用熔融纺膜与先驱体转化法相结合制备出连续SiC自由薄膜,研究薄膜在1300,1400,1500℃温度下空气退火处理的氧化行为,以及退火温度对薄膜微观结构、光致发光特性(PL)、硬度和电阻率的影响。结果表明,SiC薄膜在1300℃具有较佳的抗氧化和发光特性,随着退火温度的升高,薄膜的抗氧化和发光特性略有降低,薄膜中无定型SiOxCy减少,-βSiC晶粒长大及游离碳增多,薄膜表面硬度与电阻率下降,表面惰性致密氧化层的生成保护阻挡氧扩散,从而有效减缓薄膜进一步被氧化。 展开更多
关键词 碳化硅自由薄膜 抗氧化 退火温度 光致发光
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Fully Nonlinear Simulation for Fluid/Structure Impact:A Review 被引量:2
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作者 Shili Sun Guoxiong Wu 《Journal of Marine Science and Application》 2014年第3期237-244,共8页
This paper presents a review of the work on fluid/structure impact based on inviscid and imcompressible liquid and irrotational flow. The focus is on the velocity potential theory together with boundary element method... This paper presents a review of the work on fluid/structure impact based on inviscid and imcompressible liquid and irrotational flow. The focus is on the velocity potential theory together with boundary element method (BEM). Fully nonlinear boundary conditions are imposed on the unknown free surface and the wetted surface of the moving body. The review includes (1) vertical and oblique water entry of a body at constant or a prescribed varying speed, as well as free fall motion, (2) liquid droplets or column impact as well as wave impact on a body, (3) similarity solution of an expanding body. It covers two dimensional (2D), axisymmetric and three dimensional (3D) cases. Key techniques used in the numerical simulation are outlined, including mesh generation on the multivalued free surface, the stretched coordinate system for expanding domain, the auxiliary function method for decoupling the mutual dependence of the pressure and the body motion, and treatment for the jet or the thin liquid film developed during impact. 展开更多
关键词 fluid/structure impact boundary element method 3D surface mesh generation water entry wave impact similarity solution fully nonlinear simulation
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A universal etching-free transfer of MoS2 films for applications in photodetectors 被引量:2
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作者 Donglin Ma Jianping Shi +11 位作者 Qingqing Ji Ke Chen Jianbo Yin Yuanwei Lin Yu Zhang Mengxi Liu Qingliang Feng Xiuju Song Xuefeng Guo Jin Zhang Yanfeng Zhang Zhongfan Liu 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第11期3662-3672,共11页
Transferring MoS2 films from growth substrates onto target substrates is a critical issue for their practical applications. Moreover, it remains a great challenge to avoid sample degradation and substrate destruction,... Transferring MoS2 films from growth substrates onto target substrates is a critical issue for their practical applications. Moreover, it remains a great challenge to avoid sample degradation and substrate destruction, because the current transfer method inevitably employs a wet chemical etching process. We developed an etching-free transfer method for transferring MoS2 films onto arbitrary substrates by using ultrasonication. Briefly, the collapse of ultrasonication-generated microbubbles at the interface between polymer-coated MoS2 film and substrates induce sufficient force to delaminate the MoS2 films. Using this method, the MoS2 films can be transferred from all substrates (silica, mica, strontium titanate, and sapphire) and retains the original sample morphology and quality. This method guarantees a simple transfer process and allows the reuse of growth substrates, without involving any hazardous etchants. The etching-free transfer method is likely to promote broad applications of MoS2 in photodetectors. 展开更多
关键词 MOS2 etching-free efficient transfer ultrasonic bubbling environmental friendliness
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Elastic stress fields caused by a dislocation in Ge_xSi_(1-x)/Si film-substrate system 被引量:1
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作者 WANG HuYi YU Yong YAN ShunPing 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2014年第6期1078-1089,共12页
The elastic stress fields caused by a dislocation in GexSil~ epitaxial layer on Si substrate are investigated in this work. Based on the previous results in an anisotropic bimaterial system, the image method is furthe... The elastic stress fields caused by a dislocation in GexSil~ epitaxial layer on Si substrate are investigated in this work. Based on the previous results in an anisotropic bimaterial system, the image method is further developed to determine the stress field of a dislocation in the film-substrate system under coupled condition. The film-substrate system is firstly transformed into a bimaterial system by distributing image dislocation densities on the position of the free surface. Then, the unknown image dis- location densities are solved by using boundary conditions, i.e., traction free conditions on the free surface. Numerical simula- tion focuses on the Ge0.1Si0.9/Si film-substrate system. The effects of layer thickness, position of the dislocation and crystallo- graphic orientation on the stress fields are discussed. Results reveal that both the stresses σxx,σxz at the free surface and the stress o-σx, σyy, σyz on the interface are influenced by the layer thickness, but the former is stronger. In contrast to the weak de- pendence of stress field on the crystallographic orientation the stress field was strongly affected by dislocation position. The stress fields both in the film-substrate system and bimaterial system are plotted. 展开更多
关键词 ELASTIC DISLOCATION ANISOTROPIC image method COUPLE
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