自释釉制备技术的研究进展

自释釉是利用烧成或干燥过程中坯体自身释放熔(溶)剂扩散到表面而形成釉层,由于省去釉料加工和施釉环节,可以显著降低生产成本。当前自释釉还没有规模化应用于生产中,一些形成机理还有待于深入研究。本文综述了自释釉种类、形成机理、应用前景及存在问题,并对自释釉制备技术前景进行了展望。

自释釉瓷质砖的制备及机理研究

以钾长石、石英、高岭土为主要原料,以碳酸钠为自释剂,在烧成温度1150~1300℃制备自释釉瓷质砖。采用坯体分层和质量差值法研究自释剂在干燥阶段的扩散过程。采用光泽度仪、SEM、EDS等对自释剂含量、烧成制度等因素对试样的光泽度、微观结构及元素分布等进行研究。结果表明:自释釉为自释剂在干燥和烧成阶段扩散到坯体表面熔融形成的结果。当自释剂的添加量为5%,烧成温度1200℃、保温时间30 min的条件下,可获得效果较好的自释釉瓷质砖,吸水率为0.5%、釉层厚度约为0.3 mm、光泽度为58,且试样边缘没有形变(圆角现象)。