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SAW器件芯片底部处理的工艺实验研究
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作者 蔡国儒 张华 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2003年第3期175-178,共4页
介绍声表器件中几种体波模型,讨论什么传播方式的体波可以通过底部处理得到抑制或消除,同时对底部处理的工艺特别是打毛和刻沟槽两种方式进行讨论和比较,通过实验和分析得出选择底部处理工艺的依据。另外,文中还提到一些辅助方式如粘接... 介绍声表器件中几种体波模型,讨论什么传播方式的体波可以通过底部处理得到抑制或消除,同时对底部处理的工艺特别是打毛和刻沟槽两种方式进行讨论和比较,通过实验和分析得出选择底部处理工艺的依据。另外,文中还提到一些辅助方式如粘接剂的选择和端面处理等。 展开更多
关键词 声表面波 体声波 打毛 刻沟槽 抑制 SAW器件 芯片底部处理
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