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集成电路芯片湿法去层技术研究
被引量:
2
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作者
傅华
《数字通信世界》
2019年第3期85-85,共1页
随着集成电路行业发展,芯片去层技术在芯片失效分析方面应用越来越广泛,在集成电路测试等领域发挥着重要的作用。本文着重探究了集成电路芯片湿法去层技术,针对芯片失效具体情况,探讨了去除钝化层、金属化层、层间介质层等不同方法的具...
随着集成电路行业发展,芯片去层技术在芯片失效分析方面应用越来越广泛,在集成电路测试等领域发挥着重要的作用。本文着重探究了集成电路芯片湿法去层技术,针对芯片失效具体情况,探讨了去除钝化层、金属化层、层间介质层等不同方法的具体原理和适用领域,提出了具体的对策建议,以供参考。
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关键词
集成电路
芯片湿法去层技术
原理
结构
模式
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职称材料
题名
集成电路芯片湿法去层技术研究
被引量:
2
1
作者
傅华
机构
苏州晶瑞化学股份有限公司
出处
《数字通信世界》
2019年第3期85-85,共1页
文摘
随着集成电路行业发展,芯片去层技术在芯片失效分析方面应用越来越广泛,在集成电路测试等领域发挥着重要的作用。本文着重探究了集成电路芯片湿法去层技术,针对芯片失效具体情况,探讨了去除钝化层、金属化层、层间介质层等不同方法的具体原理和适用领域,提出了具体的对策建议,以供参考。
关键词
集成电路
芯片湿法去层技术
原理
结构
模式
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
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1
集成电路芯片湿法去层技术研究
傅华
《数字通信世界》
2019
2
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