甲酰胺在高岭石层间的定向研究

甲酰胺插层作用使高岭石层间距从0.717nm膨胀为1.020nm。其增加值(0.303nm)小于甲酰胺的范得瓦尔分子直径(0.47nm)。DRIFT光谱研究表明插层作用破坏了原高岭石层间氢键,并分别在高岭石Si—O基与甲酰胺NH基和高岭石OH基与甲酰胺CO基之间形成氢键,甲酰胺HN基还部分嵌入高岭石复三方孔洞。