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兆声清洗技术分析及应用
被引量:
5
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作者
李仁
《电子工业专用设备》
2004年第1期63-66,共4页
主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用。采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率。
关键词
RCA清洗法、高纯水
范德瓦尔斯引力
气穴效应
兆声清洗
压电陶瓷晶体
下载PDF
职称材料
题名
兆声清洗技术分析及应用
被引量:
5
1
作者
李仁
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2004年第1期63-66,共4页
文摘
主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用。采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率。
关键词
RCA清洗法、高纯水
范德瓦尔斯引力
气穴效应
兆声清洗
压电陶瓷晶体
Keywords
RCA cleaning, Ultra-purity water, Van der waals force, Acoustic Cavitations, mega-sonic cleaning, Ceramic piezoelectric crystal
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
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作者
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兆声清洗技术分析及应用
李仁
《电子工业专用设备》
2004
5
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