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兆声清洗技术分析及应用 被引量:5
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作者 李仁 《电子工业专用设备》 2004年第1期63-66,共4页
主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用。采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率。
关键词 RCA清洗法、高纯水 范德瓦尔斯引力 气穴效应 兆声清洗 压电陶瓷晶体
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