期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响
1
作者 胡叶廷 周雷勇 +2 位作者 李晓娜 远藤浩史 森崇德 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第4期504-508,共5页
残像的存在严重影响液晶显示器的画面品质。但由于其发生的机理较复杂,目前还没有较好的解决方案。本文以负性液晶材料为基础,在其中加入新型莨菪烷基添加剂,研究其在FFS模式中对残像的影响。通过闪烁漂移、DC残留电压释放以及棋盘格残... 残像的存在严重影响液晶显示器的画面品质。但由于其发生的机理较复杂,目前还没有较好的解决方案。本文以负性液晶材料为基础,在其中加入新型莨菪烷基添加剂,研究其在FFS模式中对残像的影响。通过闪烁漂移、DC残留电压释放以及棋盘格残像测试,系统分析并讨论了添加剂的使用对负性液晶残像的影响。研究结果表明,加入添加剂后,样品的闪烁漂移得到改善;残留DC偏置积聚量减小30%且释放速度提升了95%;V_(com)漂移由0.7 V改善至0.02 V,V_(com)亮度变化由8 cd/m^(2)降低至2 cd/m^(2);线残像由L3改善至L1。本研究对从液晶材料方面改善残像具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 边缘场切换广角技术 残像 负性液晶 莨菪烷基添加剂
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部