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萘酞菁分子在Cd(0001)表面的自组装和手性特征 被引量:1
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作者 马朝科 石明霞 +3 位作者 孙凯 陶敏龙 王俊忠 谷云高 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2021年第11期23-30,共8页
通过有机分子束沉积法和超高真空-低温扫描隧道显微镜研究了非手性的萘酞菁(H_(2)Pc)在Cd(0001)表面的手性特征和生长机理.研究发现:在极低的覆盖度下,每个分子都沿Cd(0001)衬底的晶向排列.随着分子的聚集,分子的叶瓣和衬底的晶向不是... 通过有机分子束沉积法和超高真空-低温扫描隧道显微镜研究了非手性的萘酞菁(H_(2)Pc)在Cd(0001)表面的手性特征和生长机理.研究发现:在极低的覆盖度下,每个分子都沿Cd(0001)衬底的晶向排列.随着分子的聚集,分子的叶瓣和衬底的晶向不是一致的,存在大约8°的偏差.在0.8 ML(定义1 ML为在第2层出现之前能够完全覆盖整个衬底表面的H_(2)Pc覆盖度)时,由于与衬底的不对称电荷转移,M型分子(定义M型分子叶瓣与衬底晶向成8°夹角)表现出明显的手性特征.随着覆盖率的进一步提高,H_(2)Pc分子的亚单层分子从平躺表面吸附转变为倾斜三角吸附,同时表现出不同的手性特征.在分子的第2层中,H_(2)Pc分子表现出倾斜的吸附. 展开更多
关键词 酞菁(h_(2)pc) 手性特征 自组装 Cd(0001)表面
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