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硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉的表面处理 被引量:3
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作者 王俊杰 张玉梅 王华平 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2004年第3期261-264,共4页
采用硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉YLAG进行了表面处理,并将荧光粉与尼龙66(PA66)进行熔融共混,利用散射式浊度仪、透射电镜、红外光谱、扫描电镜分别研究了表面处理前后荧光粉的沉降性、微观形貌及化学结构的变化,以及荧光粉/聚合物共混... 采用硅烷类偶联剂对蓄光性荧光粉YLAG进行了表面处理,并将荧光粉与尼龙66(PA66)进行熔融共混,利用散射式浊度仪、透射电镜、红外光谱、扫描电镜分别研究了表面处理前后荧光粉的沉降性、微观形貌及化学结构的变化,以及荧光粉/聚合物共混体系的形态结构.结果表明,经硅烷偶联剂进行表面处理后,荧光粉与偶联剂有一定键合作用,表面处理后荧光粉的沉降速度明显减小,在PA66中的分散性得以改善. 展开更多
关键词 硅烷类偶联剂 蓄光性荧光粉 表面处理 键合 分散 铝酸盐
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