全耗尽CMOS/SOI工艺

对全耗尽 CMOS/ SOI工艺进行了研究 ,成功地开发出成套全耗尽 CMOS/ SOI抗辐照工艺 .其关键工艺技术包括 :氮化 H2 - O2 合成薄栅氧、双栅和注 Ge硅化物等技术 .经过工艺投片 ,获得性能良好的抗辐照 CMOS/ SOI器件和电路 (包括 10 1级环振、2 0 0 0门门海阵列等 ) ,其中 ,n MOS:Vt=0 .7V,Vds=4 .5～ 5 .2 V,μeff=4 6 5 cm2 / (V· s) ,p MOS:Vt=- 0 .8V ,Vds=- 5～ - 6 .3V,μeff=2 6 4 cm2 / (V· s) .当工作电压为 5 V时 ,0 .8μm环振单级延迟为 4 5

新型的电平移位电路设计

针对高压驱动电路控制提出了新的具有很大驱动电流和很小静态功耗电平移位栅电压控制电路。该电路主要利用二极管的反向工作特性,结合正反馈电路,分别为输出级PMOS管和NMOS管提供可靠栅驱动信号。该电路采用CSMC的0.5μm工艺实现,测试结果表明,所设计的电平转换功能得到实现,且转换速度快。

LDMOS低功耗自恢复电平移位电路设计

设计了一个新型的薄栅氧、低功耗、自恢复的电平移位栅电压控制电路.在20V工作电压下,n沟道和p沟道LDMOS高压器件的栅源电压Vgs分别保持在±5V.当一个选址周期结束后,电路能自动复位而不需增加任何复位器件和电路.该电路为高低压兼容,采用标准0.5μmCMOSLDMOS兼容工艺制造,可用于OLED显示的驱动控制.

一种带电平转换功能的双电源电压输出电路

出于性能、功耗和兼容性的考虑,芯片的核心电路与I/O电路一般采用不同的电源电压.文中设计了一种新型2.5V/5V双电源电压输出电路,此电路带有新型电平转换电路,能够将摆幅为0～2.5V的内部信号转换为摆幅为0～5V的输出信号.同时,文中所设计的输出电路只使用2.5V耐压的薄栅氧MOS器件,虽然在5V电压下工作,却没有栅氧过压问题.