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头部形状和着角对弹丸碰击薄目标前冲过载系数仿真研究 被引量:5
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作者 曹苏雅拉图 王雨时 +2 位作者 王强 闻泉 王乃耀 《弹箭与制导学报》 CSCD 北大核心 2012年第5期94-97,100,共5页
为了为引信惯性触发装置设计提供参考,利用LS-DYNA软件对头部不同形状的弹丸以不同着角碰击薄目标过程进行数值仿真研究,得到了头部不同形状的弹丸以不同着角碰击不同薄目标时的最大前冲过载系数。研究表明:弹丸前冲过载系数最大值并不... 为了为引信惯性触发装置设计提供参考,利用LS-DYNA软件对头部不同形状的弹丸以不同着角碰击薄目标过程进行数值仿真研究,得到了头部不同形状的弹丸以不同着角碰击不同薄目标时的最大前冲过载系数。研究表明:弹丸前冲过载系数最大值并不是在正碰靶的情况下,而是对应某一小着角,靶板材质和厚度不同该着角也不同,应考虑弹丸攻角和立靶误差导致的着角变化对引信惯性触发灵敏度和钝感度性能的影响。头部形状不同,弹丸碰靶前冲过载系数差异较大,因此弹头形状设计应综合考虑气动力特性与引信碰靶前冲环境之需。 展开更多
关键词 触发引信 过载系数 头部形状 着角 薄目标
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基于压电敏感元件的引信薄目标识别方法
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作者 李晓晨 郭旸 +2 位作者 李仿 李存利 吴奇 《兵器装备工程学报》 CSCD 北大核心 2022年第S01期124-128,共5页
针对基于惯性开关的引信目标识别方法在弹丸碰薄目标时引信发火率低,提出以压电敏感元件取代惯性开关作为过载敏感器件。仿真和试验表明,这种引信薄目标识别方法响应时间短、环境适应性强、可靠性高。
关键词 引信 薄目标识别 压电敏感元件 惯性开关
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Fabrication and Characterization of VO_2 Thin Films by Direct Current Facing Targets Magnetron Sputtering and Low Temperature Oxidation
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作者 梁继然 胡明 +2 位作者 刘志刚 韩雷 陈涛 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2008年第3期173-177,共5页
Low valence vanadium oxide(VO2-x) thin films were prepared on SiO2/Si substrates at room temperature by direct current facing targets reactive magnetron sputtering, and then proc- essed through rapid thermal annealing... Low valence vanadium oxide(VO2-x) thin films were prepared on SiO2/Si substrates at room temperature by direct current facing targets reactive magnetron sputtering, and then proc- essed through rapid thermal annealing. The effects of the annealing on the structure and phase transition property of VO2 were discussed. X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffraction tech- nique and Fourier transform infrared spectroscopy were employed to study the phase composition and structure of the thin films. The resistance-temperature property was measured. The results show that VO2 thin film is obtained after annealed at 320 ℃ for 3 h, its phase transition tempera- ture is 56 ℃, and the resistance changes by more than 2 orders. The vanadium oxide thin films are applicable in thermochromic smart windows, and the deposition and annealing process is compatible with micro electromechanical system process. 展开更多
关键词 vanadium dioxide direct current facing targets magnetron sputtering low temperature oxidation: microstructure
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