专利名称：一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置

一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征是真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源：在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。具有真空反应室空间大，设置有加热机构、真空泵组设置在机架外，设置有可升降阳极板，设置气体分流管，在气体管路上设置有电磁阀，气瓶设置在气柜内等特点。

MWPCVD制备金刚石膜装置的大功率稳定运行的研究

介绍了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置的结构和工作原理 ,着重讨论了该装置长时间大功率稳定运行的措施。该装置在微波输入功率为 3 0kW时能长时间稳定运行。