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薄膜晶体管制造中的薄膜成形装置
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作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期76-76,共1页
关键词 薄膜晶体管 制造 薄膜成形装置 等离子体化学气相沉积装置
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射频负偏压与放电电流对cBN薄膜形成的影响 被引量:3
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作者 田晶泽 夏立芳 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期469-473,共5页
用ARE(Active Reaction Evaporation) 装置, 在N2/Ar 混合等离子体弧光放电气氛下, 通过电子束蒸镀纯硼, 同时伴以一定能量的正离子轰击生长的膜表面的方法, 在单晶硅(100) 基片上成功地... 用ARE(Active Reaction Evaporation) 装置, 在N2/Ar 混合等离子体弧光放电气氛下, 通过电子束蒸镀纯硼, 同时伴以一定能量的正离子轰击生长的膜表面的方法, 在单晶硅(100) 基片上成功地合成了立方氮化硼(Cubic Boron Nitride , 简称cBN) 薄膜, 并对基片射频自偏压和等离子体弧光放电电流对cBN 膜形成的影响进行了研究。用富立叶变换红外(FTIR) 透射谱和AES对沉积的膜进行相结构和化学成分分析。FTIR 透射谱表明, 在波数约1 060cm - 1 处, 存在很强的cBN 的吸收峰。随基片所加射频负偏压及等离子体弧光放电电流的增大, 膜中的cBN 含量增大; 当射频偏压为- 200 V, 放电电流为15 A 时, 沉积的膜为单相cBN 膜。AES 的成分深度分布表明,cBN 膜中的B, N 展开更多
关键词 立方氮化硼 薄膜成形 活性反应蒸发 射频负偏压
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静电成形薄膜反射面天线的裁剪设计
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作者 杜雪林 张瑞翔 +1 位作者 张康 夏杰 《工程力学》 EI CSCD 北大核心 2024年第6期224-234,共11页
该文通过裁剪和拼接平面薄膜片来对静电成形薄膜反射面天线的表面进行设计制作。由于抛物面型薄膜反射面是一个不可展开表面,通常由许多平面薄膜片制作而成,将不可避免地降低反射面表面的精度。因此,需要详细地分析裁剪和拼接过程对反... 该文通过裁剪和拼接平面薄膜片来对静电成形薄膜反射面天线的表面进行设计制作。由于抛物面型薄膜反射面是一个不可展开表面,通常由许多平面薄膜片制作而成,将不可避免地降低反射面表面的精度。因此,需要详细地分析裁剪和拼接过程对反射面表面精度的影响,从而获得设计需要的表面精度。该文基于旋转抛物面的无矩理论建立了工作状态的反射面模型,采用常应变三角形单元离散反射面,建立了反射面的展平和拼接有限元模型。将同口径反射面沿经线划分若干组不同数量子曲面,通过子曲面进行展平和拼接数值仿真分析,对薄膜反射面进行裁剪设计。最后,制作了0.55 m口径的薄膜反射器,并进行了摄影测量实验。验证了该方法的有效性,并讨论了制造误差的影响。 展开更多
关键词 机械工程 结构设计 数值仿真 静电薄膜反射面 三角单元 无矩理论 裁剪设计 摄影测量实验
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静电成形薄膜反射面设计 被引量:1
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作者 秦东宾 杜敬利 +2 位作者 谷永振 姜文明 张逸群 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2018年第11期130-135,共6页
为制作高精度的静电成形薄膜反射面,首先利用遗传算法与梯度法的两级优化方法对各电极进行布局优化;基于优化思想在给定电压、索拉力和理想膜面的情况下,求解初始膜面的形状参数,获得无应力初始膜面;对无应力初始膜面进行裁剪分析,利用... 为制作高精度的静电成形薄膜反射面,首先利用遗传算法与梯度法的两级优化方法对各电极进行布局优化;基于优化思想在给定电压、索拉力和理想膜面的情况下,求解初始膜面的形状参数,获得无应力初始膜面;对无应力初始膜面进行裁剪分析,利用等效力学的方法进行曲面展平,得到平面裁剪片;基于有限元思想将平面裁剪片拼接得到初始膜面状态,施加静电力和索拉力后,得到理论上的拼接反射面最终成形状态。基于上述理论设计0.55 m静电成形薄膜反射面天线模型,基于Digimetric软件建立摄像测量系统,对薄膜反射面模型进行形面精度测量,通过反复的测量和形面调整,膜面精度达到0.13 mm,验证了高精度制作的可实现性。 展开更多
关键词 静电薄膜反射面天线 反射面设计 模拟 精度测量
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基于误差考虑的薄膜反射面裁剪布局优化
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作者 秦东宾 杜敬利 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2018年第9期142-148,共7页
静电成形薄膜反射面天线是一种新型天线结构,其反射面形面精度是天线性能的重要指标,深入研究薄膜反射面成形中存在的误差因素并将其分类为原理误差和制作误差,制作误差主要包括拼接误差、粘贴误差和边界误差。基于有限元思想实现反射... 静电成形薄膜反射面天线是一种新型天线结构,其反射面形面精度是天线性能的重要指标,深入研究薄膜反射面成形中存在的误差因素并将其分类为原理误差和制作误差,制作误差主要包括拼接误差、粘贴误差和边界误差。基于有限元思想实现反射面成形模拟得到原理误差;拼接误差可通过膜面设计处的转动和径向平移来数值表示;粘贴条近似等效为索单元,设置不同的索应力来模拟膜面粘贴误差;边界误差以裙边索力误差表示。基于上述误差分析提出反射面的裁剪线布局优化模型,分环数目、每环裁剪数目、电压值作为优化变量,反射面的形面精度作为优化目标同时保证膜面不褶皱。优化模型中包含连续变量和整形变量具有高度非线性,传统梯度方法难以找到最优解,因此使用梯度法和遗传算法相结合的优化方法来解决。最后以0.55 m薄膜反射面天线模型为算例来验证优化模型的有效性。 展开更多
关键词 静电薄膜反射面天线 面误差 模拟 裁剪布局优化
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Preparation, formation mechanism and mechanical properties of multilayered TiO_2-organic nanocomposite film 被引量:2
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作者 牟文宁 翟玉春 石双志 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第4期1128-1134,共7页
Ti O2-organic multilayered nanocomposite films were deposited on a self-assembled monolayer-coated silicon substrate based on layer-by-layer technique and chemical bath deposition method by a hydrolysis of Ti Cl4 in a... Ti O2-organic multilayered nanocomposite films were deposited on a self-assembled monolayer-coated silicon substrate based on layer-by-layer technique and chemical bath deposition method by a hydrolysis of Ti Cl4 in an acid aqueous solution. The chemical compositions, surface morphologies and mechanical properties of the films were investigated by X-ray photoelectron spectrometer(XPS), scanning electron microscopy(SEM) and nanoindentation depth-sensing technique, respectively. The results indicate that the major chemical compositions of the films are Ti and O. The principal mechanism for the nucleation and growth of the films is homogeneous nucleation, and the layer number of films has great influence on the surface morphology and roughness of the films. In addition, mechanical nanoindentation testing presents a significant increase in hardness and fracture toughness of titanium dioxide multilayered films compared with single-layer titanium dioxide thin film. 展开更多
关键词 titanium dioxide multilayered film self-assembly monolayer formation mechanism mechanical properties
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化妆品的新科技
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作者 徐建华 《中外轻工科技》 1997年第3期25-25,共1页
关键词 化妆品 聚合物 稠度要素 基础配方 指甲油 耐磨性 薄膜成形 光散射 相互关系 苯甲酸盐
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A Novel Pyrazoline-based Starburst Amorphous Molecular Material
8
作者 ChangQiMA YiShanYAO XueSongWANG BaoWenZHANG YiCAO 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2005年第3期423-426,共4页
A pyrazoline-containing starburst molecule, 4,4’,4"-tris[(1,3-diphenyl-4,5-dihydro-1H- pyrazol)-5-yl]-triphenylamine (Tris-5-DPP), was synthesized in a facile way, which can form amorphous thin films with glass ... A pyrazoline-containing starburst molecule, 4,4’,4"-tris[(1,3-diphenyl-4,5-dihydro-1H- pyrazol)-5-yl]-triphenylamine (Tris-5-DPP), was synthesized in a facile way, which can form amorphous thin films with glass transition temperature as high as 136 °C. 展开更多
关键词 Starburst molecule PYRAZOLINE amorphous thin film.
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微电子学、集成电路
9
《中国无线电电子学文摘》 1995年第6期56-59,共4页
关键词 微电子学 产业化 电路技术 电路产业 高速集电路 IC产业结构 IC技术 微细加工 超导薄膜 薄膜成形
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电气和电子工程用材料科学
10
《中国无线电电子学文摘》 1996年第1期2-7,共6页
关键词 二氧化锡薄膜 等离子增强化学气相沉积 材料科学 IC加工工艺 微机控制 电子器件 薄膜成形 剥离工艺 生长方法 制膜工艺
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A new pseudo rubrene analogue with excellent film forming ability
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作者 ZHANG XiaoTao MENG Qing +3 位作者 HE YuDong WANG ChengLiang DONG HuanLi HU WenPing 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2011年第4期631-635,共5页
A novel pseudo rubrene analogue,6,11-di(thiophen-2-yl)-tetracene-5,12-dione (DTTDO) was synthesized,in which two thienyl groups and two carbonyl groups replacing four phenyl groups in the rubrene molecule were connect... A novel pseudo rubrene analogue,6,11-di(thiophen-2-yl)-tetracene-5,12-dione (DTTDO) was synthesized,in which two thienyl groups and two carbonyl groups replacing four phenyl groups in the rubrene molecule were connected to the backbone of tetracene.This compound was characterized by single crystal X-ray structure analysis,thermogravimetric analysis,absorption spectra and electrochemical measurements.Unlike rubrene,DTTDO exhibited excellent film forming ability by normal vacuum deposition,indicating its promising applications in organic thin film transistors. 展开更多
关键词 DTTDO thin films organic field-effect transistors
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