内压下弹性薄膜球的稳定性

在大变形条件下，给出内压下弹性薄膜球的几何非线性问题的解答。

中国印刷博物馆藏品鉴赏(十一)——球振薄膜打样制版机

中国印刷博物馆收藏有百余台大小不一、用途各异的印刷设备。这些设备产于19世纪60年代到20世纪90年代,时间跨度超过一个世纪,既有国内自主生产的,也有从国外引进的,包含凸版印刷、平版印刷、凹版印刷、孔版印刷和印后加工设备五大系列。如今这些印刷设备已经退出历史舞台,其承载的工艺技术也被先进科技所替代。但它们作为印刷工业文明的成果,反映了近代印刷科技进步的历史进程,体现了印刷文化和印刷科技的内涵,折射了印刷技术及设备器材创新、创造的辉煌成就。本系列文章通过梳理与研究,力图讲解印刷科技创新、创造故事,展现先人创造和综合利用科学技术的非凡能力,解读兴衰原由,弘扬先人功业,献身复兴鸿图。以史为鉴,开创未来。

全向增阻离轨的充气薄膜球设计与性能分析

增阻式离轨是避免小卫星失效后产生空间碎片的高效方式之一。该文针对充气展开增阻薄膜球的离轨问题,首先,给出了充气展开薄膜球的全向增阻设计方案,提出了闭合三维球面变形收缩为紧致星型与星瓣Z型融合折叠方法,经零线宽与变厚度折叠形成密实立方体状;其次,基于小挠度球壳变形假设,分析了增阻薄膜球在极限高度200 km下受到最大气阻力时其球面的失稳临界压力,对比在室温和高温条件下薄膜球的临界压力变化,通过真空环境箱进行试验验证;最后,分析了不同碎片面质比与增阻薄膜球直径对离轨时间的影响关系。结果表明:聚酰亚胺薄膜球可作为空间碎片的全向增阻离轨设计的球状结构,随着球体直径的增大,其临界压力呈指数型下降;在相同的轨道高度,碎片的面质比越大,离轨时间越短;在相同的面质比条件下,碎片的轨道高度越高,离轨时间越长。

碳纳米球薄膜的场发射特性

利用微波等离子体化学气相沉积法,在Si(100)衬底上制备了碳纳米球薄膜。利用拉曼光谱和场发射扫描电子显微镜研究了薄膜的结构以及表面形貌,表明碳纳米球薄膜是由约2～3μm长、100nm宽的无定形碳纳米片相互缠绕、交织成球状而构成的。在高真空系统中测量了碳纳米球薄膜的场发射特性,结果表明,碳纳米球薄膜具有良好的场发射特性,阈值电场为3.1V/μm,当电场增加到10V/μm时,薄膜的场发射电流密度可达到60.7mA/cm2。通过三区域电场模型合理地解释了碳纳米球薄膜在低电场、中间电场和高电场区域的场发射特性。

球震薄膜打样——铅转胶制版新工艺

一、胶印印书及其制版的简短历史过去书刊和报纸、杂志的文字印刷,几乎都是凸版铅印,随着新时代的发展和建设精神文明的需要,报纸、期刊的出版,发行量大大增加,从而单靠凸版铅印的老工艺无论在数量和质量上都无法满足日益增长的需要。为此我国的印刷业进行了全面的技术改造。