期刊文献+
共找到8篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响 被引量:5
1
作者 张玉娟 吴志国 +4 位作者 张伟伟 李鑫 阎鹏勋 刘维民 薛群基 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期1264-1268,共5页
在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对Ti... 在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响。对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ~2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究。结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20~70nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列。 展开更多
关键词 氮化钛 磁过滤等离子体 薄膜织构
下载PDF
离子束辅助激光制备织构薄膜的计算机模拟
2
作者 邓玉荣 刘庆华 +2 位作者 黄新堂 祁守仁 王又青 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期205-208,共4页
在离子束辅助激光制备取向薄膜的物理机制基础上.利用计算机模拟了织构薄膜生长的物理过程.结果表明,织构薄膜的质量直接与不同取向晶粒被辅助粒子束溅射掉的几率相关,这在实验中表现为与辅助离子束入射方向、离子束能量、薄膜材料... 在离子束辅助激光制备取向薄膜的物理机制基础上.利用计算机模拟了织构薄膜生长的物理过程.结果表明,织构薄膜的质量直接与不同取向晶粒被辅助粒子束溅射掉的几率相关,这在实验中表现为与辅助离子束入射方向、离子束能量、薄膜材料种类等因素有关. 展开更多
关键词 织构薄膜 计算机模拟 离子束辅助制备
下载PDF
织构化Cr-DLC薄膜对高加水量面带黏附性能的影响
3
作者 张学阁 詹华 +1 位作者 王亦奇 汪瑞军 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期70-75,共6页
研究在食品机械面带压延辊用06Cr19Ni10合金表面制备织构化铬掺杂类金刚石(Cr-DLC)薄膜对高加水量面带黏附性能的影响。在06Cr19Ni10合金试样表面采用皮秒激光加工织构结构,并在优化的织构结构表面采用离子源辅助非平衡磁控溅射方法制备... 研究在食品机械面带压延辊用06Cr19Ni10合金表面制备织构化铬掺杂类金刚石(Cr-DLC)薄膜对高加水量面带黏附性能的影响。在06Cr19Ni10合金试样表面采用皮秒激光加工织构结构,并在优化的织构结构表面采用离子源辅助非平衡磁控溅射方法制备Cr-DLC薄膜;利用三维白光干涉表面形貌仪测试试样表面形貌和表面粗糙度;利用黏附测试平台分析加水量55%的面带在织构化铬掺杂类金刚石(Cr-DLC)薄膜表面的黏附性能;利用滴定法测量试样表面水滴、乙二醇液滴的接触角并分析表面能。结果表明,高含水量的面带在织构结构表面的黏附能力随着织构间距增大和深度增加而降低,间距85μm、深度5μm的试样抗黏附能力最优,与06Cr19Ni10合金基体相比面带的黏附能力降低了39.8%;面带在织构化Cr-DLC薄膜表面的黏附能力为98 J/m2,与06Cr19Ni10合金基体试样相比降低68.3%;面带在接触表面的黏附能力随着表面能色散分量与极性分量差值的增大呈线性递减规律。分析认为,所制备的"碗口"型特征的织构结构、Cr-DLC薄膜均具有降低表面能极性分量,增大色散分量的作用;织构结构和Cr-DLC薄膜的协同作用提高了06Cr19Ni10合金试样表面的抗黏附性能。针对高加水量55%的面带,制备间距85μm、深度5μm的织构化Cr-DLC薄膜具有最佳的抗黏附功能。 展开更多
关键词 织构化Cr-DLC薄膜 高含水量面带 黏附性能
下载PDF
测定表面织构薄膜厚度的X射线双级衍射法
4
作者 于志伟 关德林 《大连海运学院学报》 CSCD 1993年第2期207-210,共4页
本文利用薄膜或膜下基体晶面的一、二级X射线衍射消除织构因素。提出两种测定织构薄膜厚度的方法:薄膜线条法和基体线条法。推导出膜厚测定表达式d=sinθ_1/μLln(1/K)。给出其测量相对误差的极小值条件K=1/e,并实验验证了该方法适用。
关键词 X射线衍射 织构薄膜 厚度 测定
下载PDF
离子束辅助沉积改善铝薄膜的取向生长
5
作者 谷宇 曾飞 +1 位作者 高阳 潘峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期500-503,共4页
高性能的铝薄膜因具有低的声阻抗而广泛应用于声表面波器件的制备。本文运用Ar离子束辅助沉积技术,在64°Y-X切向的铌酸锂基片上成功的制备出(111)高度取向的铝薄膜,并研究了Ar离子的注入角度对薄膜的织构形成的影响。结果表明,薄... 高性能的铝薄膜因具有低的声阻抗而广泛应用于声表面波器件的制备。本文运用Ar离子束辅助沉积技术,在64°Y-X切向的铌酸锂基片上成功的制备出(111)高度取向的铝薄膜,并研究了Ar离子的注入角度对薄膜的织构形成的影响。结果表明,薄膜织构度对辅助离子束入射角度非常敏感,在辅助离子束入射角为35°时,薄膜(111)织构最强,电阻率最小,附着力最好,适合于声表面波器件中的应用。 展开更多
关键词 织构薄膜 离子束辅助沉积 入射角 机械性能 沟道效应
下载PDF
微棱锥阵列薄膜UV压印成型及光学特性研究
6
作者 石平 许志龙 +2 位作者 徐西鹏 陈秀玉 吴海锋 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2021年第10期1561-1566,共6页
采用UV压印固化成型的方法制备具疏水性的微棱锥阵列减反薄膜,并设计正交试验探究了各工艺对其微观结构成型的影响,得到复形度高的微棱锥阵列薄膜的优化方案(压强0.5~0.8 MPa,充型时间30 s,光固化时间1 min)。通过对其减反性能分析,所... 采用UV压印固化成型的方法制备具疏水性的微棱锥阵列减反薄膜,并设计正交试验探究了各工艺对其微观结构成型的影响,得到复形度高的微棱锥阵列薄膜的优化方案(压强0.5~0.8 MPa,充型时间30 s,光固化时间1 min)。通过对其减反性能分析,所制备的微棱锥阵列薄膜比无织构的平膜加权反射率低5%,分析各影响因素发现抑制气泡缺陷,并控制微棱锥特征结构参数高度和侧面夹角精度可使微织构薄膜减反能力相比提高21%,同时织构膜水滴接触角表明其具有自洁性。 展开更多
关键词 微棱锥阵列 UV压印 织构薄膜 反射率 疏水
下载PDF
多晶碲纳米薄膜结构调控及热电性能研究
7
作者 向征 于治 +2 位作者 赵洋 张芳萍 邰凯平 《太原科技大学学报》 2024年第6期580-585,595,共7页
碲(Te)纳米材料微观结构的变化会影响其内部载流子和声子的传输性能,导致其在热电性能方面存在差异。该研究利用物理气相沉积法,制备了具有不同纳米结构的Te薄膜材料,并研究了不同微观结构Te薄膜的热电性能差异。结果显示:具有(l 00)强... 碲(Te)纳米材料微观结构的变化会影响其内部载流子和声子的传输性能,导致其在热电性能方面存在差异。该研究利用物理气相沉积法,制备了具有不同纳米结构的Te薄膜材料,并研究了不同微观结构Te薄膜的热电性能差异。结果显示:具有(l 00)强织构的碲纳米片,室温下的电导率为3.49 s/cm,赛贝克系数高达450μV/K,功率因子(PF)可达0.7μ·W^(-1)·cm·K^(-2).而无(l 00)织构的柱状晶Te纳米棒和纳米辊室温下电导率分别为0.94 s/cm和0.62 s/cm,赛贝克系数分别为395μV/K和401μV/K.但碲纳米片的热导率为1.52 W·m^(-1)·K^(-1),而碲纳米棒和纳米辊的热导率仅为0.89 W·m^(-1)·K^(-1)和0.72 W·m^(-1)·K^(-1).结果表明,多晶碲薄膜在不同微观结构上热电性能具有明显的差异,主要是由于薄膜织构同时影响了Te材料的载流子迁移率和晶格热导率。该研究为制备有序纳米结构来提升材料热电性能提供了新的思路。 展开更多
关键词 纳米结构 薄膜织构 气相沉积 热电性能
下载PDF
Vacuum deposited film growth,morphology and interfacial electronic structures of 2,7-dioctyl[1]benzothieno[3,2-b]benzothiophene(C8-BTBT)
8
作者 WEI Jun-hua NIU Dong-mei GAO Yong-li 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第4期1041-1061,共21页
Interfaces play critical roles in electronic devices and provide great diversity of film morphology and device performance.We retrospect the substrate mediated vacuum film growth of benchmark high mobility material 2,... Interfaces play critical roles in electronic devices and provide great diversity of film morphology and device performance.We retrospect the substrate mediated vacuum film growth of benchmark high mobility material 2,7-dioctyl[1]benzothieno[3,2-b]benzothiophene(C8-BTBT)and the interface electronic structures.The film growth of C8-BTBT molecules is diversified depending on the substrate-molecule and molecule-molecule interactions.On atomic smooth substrates C8-BTBT film grows in layer-by-layer mode while on coarse substrate it grows in islands mode.The initial molecular layer at dielectric,semiconductor and conductive substrates displays slight different lattice structure.The initial molecule orientation depends on the substrate and will gradually change to standing up configuration as in bulk phase.C8-BTBT behaves as electron donor when contacting with dielectric and stable conductive materials.This usually induces a dipole layer pointing to C8-BTBT and an upward bend bending in C8-BTBT side toward the interface.Although it is air stable,C8-BTBT is chemically reactive with some transition metals and compounds.The orientation change from lying down to standing up in the film usually leads to decrease of ionization potential.The article provides insights to the interface physical and chemical processes and suggestions for optimal design and fabrication of C8-BTBT based devices. 展开更多
关键词 interface film morphology packing configuration growth mode electronic structure chemical reaction interface dipole
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部