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光致抗蚀剂曝光的虚膜插入模拟技术 被引量：1
1
作者 范建兴 杨华中 汪蕙 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期886-891,共6页
提出了在各膜层之间插入虚膜的计算方法 ,导出了相应的光学薄膜传输矩阵 .该方法使得膜与膜之间解耦 ,并便于在计算机上存储和计算薄膜的反射率、透射率以及能流密度 .对抗蚀剂曝光的计算结果表明这种技术是有效的 .
关键词 虚膜插入模拟技术 光学传输矩阵 抗蚀剂曝光 光学薄膜计算 集成电路 曝光技术
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