东京电子开发出全新蚀刻技术

东京电子(TEL)近日宣布,已开发出一种用于存储芯片的通孔蚀刻技术,可用于制造400层以上堆叠的3D NAND闪存芯片。东京电子表示,该技术首次将电蚀刻应用带入低温范围,从而打造了一个具有极高蚀刻率的系统。该技术不仅能在33分钟内完成10μm深度的高纵横比蚀刻,缩减了耗时,而且蚀刻结构的几何形状相当明显,也有助于制造更高容量的3D NAND闪存芯片,还能够将生产工艺中给全球变暖造成的风险减少84%。

多层等离子体蚀刻技术的研究

干法刻蚀现已成为微小高深宽比结构加工与微细图形制作的重要手段。提出了一种新的干法刻蚀技术—多层等离子体蚀刻,充分利用腔体的空间布局,布置多层电极,并采用分层送气装置输送放电气体,实现多层同时进行刻蚀,可成倍提高产能。采用该技术刻蚀光阻为例,从空间与时间两个角度分析了工艺参数对刻蚀速率与均匀性的影响规律与作用机理。实验结果表明,极板间距为50/55/60mm(由下向上),工作压力为40 Pa,R[O2:Ar]为1/2,RF功率为600W时,整炉次刻蚀速率均值为14.395 nm/min,均匀性为9.8%,此时工艺最为合理。

锆石裂变径迹定年蚀刻技术

回顾了锆石裂变径迹定年蚀刻方法的进展 ,分析了各蚀刻方法的使用及其局限。对不同混合酸体系蚀刻FC - 3锆石进行了比较 ,选出浓HNO3+HF 1 90℃为最佳混合酸蚀刻体系。改进的碱酸体系结合的两步蚀刻法 ,可使锆石观测面清晰度明显增加 ,光学特性变好 ,观测部位界限清楚 ,可观测面积增加 ,径迹干扰减少 ,易测准 ,读数的可重复性好。先碱后酸的蚀刻顺序可明显使误差减小 ,提高测量精度 。

冷冻蚀刻技术在大鼠严重烧伤后肠粘膜病变研究中的应用

冷冻蚀刻技术在大鼠严重烧伤后肠粘膜病变研究中的应用Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｏｆｆｒｅｅｚｅ－ｅｔｃｈｉｎｇｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｉｎｐａｔｈｏｌｏｇｉｃａｌｓｔｕｄｙｏｎｉｎｔｅｓｔｉｎａｌｍｕｃｏｓａａｆｔｅｒｓｅｖｅｒｅｂｕｒｎｉｎｊｕｒｙｉｎｒａｔ...

多层印制电路板内层图形蚀刻技术研究

本文在就多层印制板内层图形制作之蚀刻工艺技术进行简单介绍的基础上，对该制程的质量控制进行了较为详细的论述。

大理石和花岗石的化学蚀刻技术

大理石和花岗石的化学蚀刻,是近年来发展起来的一种新技术。应用这种技术。可在大理石和花岗石的装饰表面上蚀刻各种文字和花纹图案,具有工作效率高、工艺简单、省力省时、省原材料等优点。在当前石材行业中工艺制品比重越来越大,雕刻任务日益繁重的情况下,采用这种新技术,既能使工人从笨重的锤凿中解放出来,又能大大提高生产效率。为供参考,现将大理石和花岗石的化学蚀刻技术作一简要介绍。

大理石和花岗石的化学蚀刻技术

大理石和花岗石的化学蚀刻,是近年来发展起来的一种新技术。应用这种新技术,可在大理石和花岗石的装饰表面上蚀刻各种文字和花纹图案,具有工作效率高、工艺简单、省力省时、省原材料等优点。在当前石材行业中工艺制品比重越来越大。

金属蚀刻技术

金属蚀刻技术历史悠久,是一项既古老又新颖、既普通又尖端的技术.随着新技术的发展,新产品的开发,金属蚀刻技术发挥越来越重要的作用.本文较全面地介绍这一技术,深入浅出,实用性强.

金属蚀刻技术

随着经济发展、社会进步,金属蚀刻技术的应用越来越被人们重视.例如制作旅游纪念品、高档铭牌、奖牌、编码盘和显示屏的电极、印花辊筒和模版、精细零件等等,都离不开金属蚀刻技术.

国产 CR39 蚀刻材料双层片蚀刻技术研究

使用２３９Ｐｕα放射源辐照国产ＳＹ－１型ＣＲ３９片，研究了该片子的双层片电化学蚀刻参数特性。提出的双层片蚀刻技术可以提高蚀刻速度、消除电击穿干扰。实验初步确定的蚀刻条件：化学预蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；３．５ｈ），电化学蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；１．５ｈ；２５ｋＶ／ｃｍ；１．５ｋＨｚ）。利用液体镭盐标准氡源研究了该片子的测氡性能，采用５０×３０ｍｍ扩散取样盒测量，实验确定的氡刻度转换因子为３．５１±０．

高精度蚀刻技术

本文针对传统湿法蚀刻的固有弊端，提出了避免传统蚀刻方法固有弊端的四种高精度蚀刻。

金属精细蚀刻技术

随着经济的发展，金属蚀刻技术的应用越来越被人们重视，有人想开发旅游纪念品，有人想制作铭牌、奖牌等，所以金属蚀刻又受到人们的重视，但是不是旧的手工方式的重复，而是在新材料的基础上有了发展和提高，如在不锈钢上蚀刻0．05mm的精细线条，从而就进入了高新技术领域。

丝网印刷与金属蚀刻技术

上述油墨一般都是耐酸不耐碱的,其性能和工艺不同,品种也有所差别,例如: (1)太阳油墨公司的PER—15系列油墨 颜色 蓝色 含固量 30％wt～75％wt 粘度 1PS～200PS 保存期 4个月(20℃以下,暗处) 固化温度 70℃～80℃

纳米蚀刻技术及其在20GHz频段SAW器件中的应用

纳米蚀刻技术及其在２０ＧＨｚ频段ＳＡＷ器件中的应用阎永志利用纳米蚀刻技术可将图形做得非常精细（ｕｍ级），将在ＵＬＳＩ、高速ＦＥＴ、分布反馈式激光器和ＧＨｚ频段ＳＡＷ器件等领域获得应用。常规蚀刻过程中，抗蚀膜层必须有一定厚度，但较厚的抗蚀膜无法获得纳米...

标识标牌蚀刻技术的发展前景看好

蚀刻法与传统的机械冲制方法相比，具有生产周期短（一般3天可以制造出产品），修改尺寸方便快捷的优点。而机械冲制方法必须具备高精度的冲制设备和模具加工设备，开发周期要2～3个月。由于蚀刻法的特殊性，零件的复杂程度与加工难易程度无关，而机械冲制方法对复杂的零件处理起来住住会增加制造难度，有的甚至无法加工。蚀刻法制造仅需设计制作底片（感光胶等），新品开发赞用少。蚀刻法制造的金属零件无毛刺，不改变材料的磁特性，加工后的产品平整度不爱丝毫改变。

蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破

VFD栅网以其超细的线度和高度的均匀性，提出了蚀刻技术的新课题，促成了蚀刻技术的新突破。