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制作任意形状微结构的LCD实时掩模技术
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作者 王旭智 《光机电信息》 2003年第6期16-20,共5页
本文介绍了一种利用液晶显示 (LCD)实时掩模制作任意形状微结构的新技术 ,并且阐述了该技术的原理和设计方法。基于部分相干成像理论 ,仿真了制造微轴锥体和锯齿形光栅的过程。在实验中使用彩色LCD作为实时掩模 ,成功地用LCD实时掩模技... 本文介绍了一种利用液晶显示 (LCD)实时掩模制作任意形状微结构的新技术 ,并且阐述了该技术的原理和设计方法。基于部分相干成像理论 ,仿真了制造微轴锥体和锯齿形光栅的过程。在实验中使用彩色LCD作为实时掩模 ,成功地用LCD实时掩模技术制作出微轴锥体和锯齿形光栅。实验中采用胰蛋白酶刻蚀技术将三维外形结构刻蚀在全彩色的感光银盐明胶片上 ,所得到的锯齿形光栅的节距为 4 6 .2 6 μm ,刻蚀深度为 0 .90 2 μm ;轴锥体的直径为 118.7μm ,蚀刻深度为 1.332 μm。 展开更多
关键词 微结构 制作 液晶显示 实时掩模 微轴锥体 锯齿形光栅 蛋白酶刻蚀技术 光刻
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酶蚀卤化银明胶制作连续微结构
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作者 彭钦军 郭永康 +3 位作者 刘世杰 朱建华 曾阳素 陈波 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1027-1030,共4页
提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法。给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析。求得存在吸收时 ,刻蚀深度与曝光量关系的解析式。表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因 ,并提出了解决方案和... 提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法。给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析。求得存在吸收时 ,刻蚀深度与曝光量关系的解析式。表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因 ,并提出了解决方案和优化工艺参数 ,通过实验得到在刻蚀深度为 4 μm范围内有良好的线性关系 。 展开更多
关键词 光化学 卤化银明胶 蛋白酶刻蚀 连续微结构 实时掩模
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