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工业用间二甲苯氨氧化催化剂的表面吸附特征研究
被引量:
1
1
作者
何杰
严爱珍
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第2期276-278,共3页
采用低温N2 吸附及H2 O ,C6H6和m C6H4(CH3 ) 2 等探针分子静态吸附以及NH3 TPD等方法考察了工业用间二甲苯氨氧化生产间苯二甲腈催化剂VCB1 ,VCB2和VCM表面吸附特征 .结果表明 ,VCB1 ,VCB2和VCM催化剂均具有中孔 ( 1 5~ 40nm)结构 ,...
采用低温N2 吸附及H2 O ,C6H6和m C6H4(CH3 ) 2 等探针分子静态吸附以及NH3 TPD等方法考察了工业用间二甲苯氨氧化生产间苯二甲腈催化剂VCB1 ,VCB2和VCM表面吸附特征 .结果表明 ,VCB1 ,VCB2和VCM催化剂均具有中孔 ( 1 5~ 40nm)结构 ,反应物分子在孔道中的扩散不构成吸附过程的控制步骤 ,催化剂对反应组分的吸附能力取决于催化剂表面亲合力 .VCM对m C6H4(CH3 ) 2 亲合力较强 ,其表面对H2 O和NH3 的亲合力弱是该催化剂在使用过程中深度氧化产物较多的可能原因之一 .
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关键词
间二甲苯
氨氧化催化剂
吸附特征
表面
吸附
催化性能
表面亲合力
工业催化剂
下载PDF
职称材料
题名
工业用间二甲苯氨氧化催化剂的表面吸附特征研究
被引量:
1
1
作者
何杰
严爱珍
机构
淮南工业学院化工系
南京大学化学系
出处
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第2期276-278,共3页
文摘
采用低温N2 吸附及H2 O ,C6H6和m C6H4(CH3 ) 2 等探针分子静态吸附以及NH3 TPD等方法考察了工业用间二甲苯氨氧化生产间苯二甲腈催化剂VCB1 ,VCB2和VCM表面吸附特征 .结果表明 ,VCB1 ,VCB2和VCM催化剂均具有中孔 ( 1 5~ 40nm)结构 ,反应物分子在孔道中的扩散不构成吸附过程的控制步骤 ,催化剂对反应组分的吸附能力取决于催化剂表面亲合力 .VCM对m C6H4(CH3 ) 2 亲合力较强 ,其表面对H2 O和NH3 的亲合力弱是该催化剂在使用过程中深度氧化产物较多的可能原因之一 .
关键词
间二甲苯
氨氧化催化剂
吸附特征
表面
吸附
催化性能
表面亲合力
工业催化剂
Keywords
m xylene
ammoxidation catalyst
adsorption characteristics
NH 3 TPD
分类号
O643.36 [理学—物理化学]
TQ426.94 [化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
工业用间二甲苯氨氧化催化剂的表面吸附特征研究
何杰
严爱珍
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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职称材料
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