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Er_2O_3/Si外延薄膜表面和界面组分研究 被引量:2
1
作者 朱燕艳 方泽波 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期561-565,共5页
利用X射线光电子能谱方法对Si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析。在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应。研究了清洁的Si和有氧化层的Si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对... 利用X射线光电子能谱方法对Si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析。在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应。研究了清洁的Si和有氧化层的Si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对上述两种不同的衬底上外延生长Er2O3薄膜的生长模式进行初步探讨。 展开更多
关键词 高κ氧化物 表面和界面化学组分 XPS
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三元混晶矩形量子阱线的表面和界面光学声子模 被引量:1
2
作者 包锦 闫祖威 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2020年第3期244-252,共9页
运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合介电连续模型,研究了含三元混晶的矩形量子阱线的表面和界面光学声子模。以GaAs/AlxGa1-xAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了表面和界面光学声子模的色散关系以及表面和界面光学声子模的频... 运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合介电连续模型,研究了含三元混晶的矩形量子阱线的表面和界面光学声子模。以GaAs/AlxGa1-xAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了表面和界面光学声子模的色散关系以及表面和界面光学声子模的频率随混晶组分和量子阱线结构的变化关系。结果表明:与二元晶体量子阱线和三元混晶单量子线不同,在GaAs/AlxGa1-xAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe量子阱线中分别存在十支和八支表面和界面光学声子模,这些表面和界面光学声子模的频率曲线分别位于二元晶体和三元混晶的体纵、横光学声子之间的频率区间内,且其能量随混晶组分和量子阱线结构的变化呈非线性变化,三元混晶的"单模"和"双模"性也在色散曲线中体现了出来。 展开更多
关键词 表面和界面光学声子模 三元混晶 矩形量子阱线
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三元混晶三层系统的表面和界面声子极化激元
3
作者 包锦 闫翠玲 闫祖威 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期578-584,共7页
运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了真空/极性三元混晶薄膜/极性二元半导体衬底三层系统的表面和界面声子极化激元,以AlxGa1-xAs/GaAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了表面和界面声子... 运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了真空/极性三元混晶薄膜/极性二元半导体衬底三层系统的表面和界面声子极化激元,以AlxGa1-xAs/GaAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了表面和界面声子极化激元模的色散关系以及表面和界面模的频率随混晶组分和薄膜厚度的变化关系.结果表明:与二元晶体三层系统以及三元混晶单层薄膜不同,在三元混晶三层异质结系统中存在五支表面和界面声子极化激元模,这五支表面和界面模的频率曲线位于二元晶体和三元混晶的体声子极化激元的禁带区间内,且其能量随混晶组分和薄膜厚度呈非线性变化,三元混晶的"单模"和"双模"性也在色散曲线中体现了出来. 展开更多
关键词 表面和界面声子极化激元 三元混晶 三层系统
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薄膜厚度对三元混晶四层系统的表面和界面声子极化激元的影响
4
作者 包锦 闫翠玲 闫祖威 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2015年第6期590-594,共5页
运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了薄膜厚度对真空/极性二元晶体薄膜/极性三元混晶薄膜/半无限大极性二元半导体衬底构成的四层异质结系统的表面和界面声子极化激元的影响,以GaAs/A... 运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了薄膜厚度对真空/极性二元晶体薄膜/极性三元混晶薄膜/半无限大极性二元半导体衬底构成的四层异质结系统的表面和界面声子极化激元的影响,以GaAs/Al0.4Ga0.6As四层异质结系统为例,获得了表面和界面声子极化激元模的频率随薄膜厚度的变化关系.结果表明:三元混晶四层异质结系统中存在七支表面和界面声子极化激元模,且当薄膜厚度发生变化时,只对位于其表面或界面处的极化激元模有影响,对其余的极化激元模几乎没有任何影响. 展开更多
关键词 表面和界面声子极化激元 四层系统 三元混晶
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三元混晶三层薄膜系统的表面和界面声子极化激元
5
作者 包锦 闫祖威 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2016年第2期156-164,共9页
运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了三元混晶三层薄膜系统的表面和界面声子极化激元.以Ⅲ-Ⅴ族和Ⅱ-Ⅵ族三元混晶三层薄膜系统为例,获得了表面和界面声子极化激元模的色散关系以及... 运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了三元混晶三层薄膜系统的表面和界面声子极化激元.以Ⅲ-Ⅴ族和Ⅱ-Ⅵ族三元混晶三层薄膜系统为例,获得了表面和界面声子极化激元模的色散关系以及表面模和界面模的频率随三元混晶组分和薄膜厚度的变化关系.结果表明,由于表面和界面数量的增加,与三元混晶量子阱和双层薄膜系统不同,在Al_xGa_(1-x)As/GaAs/Al_xGa_(1-x)As和ZnSe/Zn_xCd_(1-x)Se/ZnSe三层薄膜系统中分别存在十支和八支表面和界面模,且三元混晶的组分和薄膜厚度变化时,表面和界面声子极化激元模的频率随之呈非线性变化,其色散曲线也很好地表征了三元混晶的"单模"和"双模"性. 展开更多
关键词 表面和界面声子极化激元 三层薄膜 三元混晶
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ITO/PTCDA/p-Si薄膜器件的表面和界面特性研究 被引量:3
6
作者 郑代顺 张旭 钱可元 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期280-284,共5页
界面态对于薄膜器件的性能具有非常重要的影响。有米用真空蒸发和溅射沉积的方法制备了ITO/PTCDA/p-Si薄膜器件,并采用X射线光电子能谱(XPS)和Ar+溅射技术对其表面和界面电子态进行了研究。结果表明,在ITO/PTCDA/p-Si薄膜器件的界面,不... 界面态对于薄膜器件的性能具有非常重要的影响。有米用真空蒸发和溅射沉积的方法制备了ITO/PTCDA/p-Si薄膜器件,并采用X射线光电子能谱(XPS)和Ar+溅射技术对其表面和界面电子态进行了研究。结果表明,在ITO/PTCDA/p-Si薄膜器件的界面,不仅ITO与PTCDA薄膜之间存在扩散,PTCDA与Si衬底材料之间也存在扩散现象。此外,每种原子的XPS谱表现出一定的化学位移,并以C1s和O1s谱的化学位移最为显著。 展开更多
关键词 表面和界面特性 X射线光电于能谱(XPS) 化学位移 ITO/PTCDA/p-Si
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三元混晶四层系统的表面和界面声子极化激元 被引量:2
7
作者 包锦 闫翠玲 闫祖威 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期365-371,共7页
运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了真空/极性二元晶体薄膜/极性三元混晶薄膜/极性二元晶体衬底四层系统的表面和界面声子极化激元.以AlxGa1-xAs/GaAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了... 运用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,结合电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了真空/极性二元晶体薄膜/极性三元混晶薄膜/极性二元晶体衬底四层系统的表面和界面声子极化激元.以AlxGa1-xAs/GaAs和ZnxCd1-xSe/ZnSe为例,获得了表面和界面声子极化激元模的色散关系以及表面模和界面模的频率随混晶组分和薄膜厚度的变化关系.结果表明,三元混晶四层异质结系统中存在七支表面和界面声子极化激元模,且这七支表面模和界面模的频率随混晶组分和薄膜厚度呈非线性变化,三元混晶的"单模"和"双模"性也在色散曲线中得到了很好的体现. 展开更多
关键词 表面和界面声子极化激元 四层系统 三元混晶
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Liq/ITO结构表面与界面的AFM和XPS研究
8
作者 李建丰 孙硕 +1 位作者 欧谷平 张福甲 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期390-394,共5页
采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有ITO膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子力显微镜(AFM)对制备的Liq/ITO样品表面进行扫描,发现Liq粉末表现为岛状形态,其表面极不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq... 采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有ITO膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子力显微镜(AFM)对制备的Liq/ITO样品表面进行扫描,发现Liq粉末表现为岛状形态,其表面极不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接触的表面和界面电子状态。对样品In3d和Sn3d的电子状态分析也证实了ITO表面沉积Liq膜存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对C1s谱的分析发现,ITO膜表面存在一定的C污染;对N1s谱分析可知,界面处N原子与OI、n和Sn原子有相互作用,这将会影响Liq的发光颜色。 展开更多
关键词 原子力显微镜 X射线光电子能谱 Liq/ITO 表面和界面电子态 有机发光器件
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岩盐结构SrC(111)表面和(111)界面的d^0半金属性
9
作者 韩红培 冯团辉 +3 位作者 张春丽 李明 冯志波 姚凯伦 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第4期661-667,共7页
利用第一性原理方法,本文研究了岩盐结构的SrC块材、(111)表面和(111)界面的电子结构和磁性.块材的SrC被证实是一个良好的d^0半金属铁磁体.计算结果显示(111)方向的C表面和Sr表面都保持了块材的半金属性.对于(111)方向四个可能的界面,... 利用第一性原理方法,本文研究了岩盐结构的SrC块材、(111)表面和(111)界面的电子结构和磁性.块材的SrC被证实是一个良好的d^0半金属铁磁体.计算结果显示(111)方向的C表面和Sr表面都保持了块材的半金属性.对于(111)方向四个可能的界面,态密度的计算显示C-Pb界面呈现半金属特性.本文对岩盐结构SrC块材、(111)表面和(111)界面半金属性的研究结果,将为高性能自旋电子器件的实际应用提供一定的理论指导. 展开更多
关键词 半金属性 表面和界面 自旋电子器件 第一性原理
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铁电体表面界面的电子结构
10
作者 王春雷 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第S1期44-49,共6页
作者简单地介绍了第一性原理计算在几种常见的钙钛矿铁电材料的表面结构研究中的应用.计算结果显示,不同材料的表面弛豫和褶皱度不完全相同.对于BaTi O3,PbTi O3和PbZrO3表面最大的离子弛豫出现在最外的终止层上,但是对SrTi O3和SrHfO3... 作者简单地介绍了第一性原理计算在几种常见的钙钛矿铁电材料的表面结构研究中的应用.计算结果显示,不同材料的表面弛豫和褶皱度不完全相同.对于BaTi O3,PbTi O3和PbZrO3表面最大的离子弛豫出现在最外的终止层上,但是对SrTi O3和SrHfO3表面最大离子弛豫出现在第二层.对于SrZrO3/SrTi O3超晶格的计算表明,可以利用界面效应产生人工铁电性. 展开更多
关键词 铁电体 表面和界面 第一性原理计算
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超薄合金薄膜表面与界面偏析宏观与微观模型的比较
11
作者 颜怡 连松友 +2 位作者 钟凤敏 王江涌 徐从康 《材料科学》 CAS 2021年第12期1253-1263,共11页
本文通过比较基于宏观热力学参数的修正达肯模型(Modified-Darken model)和基于微观原子间相互作用参数的规则溶液断键模型(Regular solution broken bond-type model),将偏析热力学参数与原子间相互作用参数建立了直接的关联。修正达... 本文通过比较基于宏观热力学参数的修正达肯模型(Modified-Darken model)和基于微观原子间相互作用参数的规则溶液断键模型(Regular solution broken bond-type model),将偏析热力学参数与原子间相互作用参数建立了直接的关联。修正达肯模型中的偏析能可表示为原子在表面/界面与体层之间的键能之差,而规则溶液断键模型中不同原子间的键能可通过修正达肯模型中的相互作用系数获得。修正达肯模型可描述从块体到超薄膜表面与界面动态和平衡态的偏析,而规则溶液断键模型则可描述应力作用下薄膜表面与界面平衡态的偏析。在修正达肯模型中引入应力项,可以更完美地描述合金薄膜材料中的偏析。利用修正达肯模型拟合偏析实验数据,获得的热力学参数可以用于检验规则溶液断键模型中原子间相互作用能的可靠性。本文以Cu-Al超薄合金属薄膜为例,分析了应力、薄膜原子间相互作用系数以及薄膜原子与衬底原子间相互作用对偏析的影响。 展开更多
关键词 规则溶液断键模型 修正达肯模型 Cu-Al合金薄膜 表面和界面偏析 扩散应力 异质外延应力
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Nd:YAG脉冲激光氧化Cr膜的微观表面
12
作者 董文 王海东 +1 位作者 李光玉 谈俭军 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期17-21,共5页
利用SEM、FESEM、AFM和XRD对Nd:YAG脉冲激光氧化Cr膜的微观结构进行了分析。在较小的激光能量作用下,所得到的氧化物薄膜均匀生长;当激光能量较高时,氧化物薄膜呈小丘状生长模式。薄膜表面形成的纳米尺寸的楔型晶界将对下一步的刻蚀产... 利用SEM、FESEM、AFM和XRD对Nd:YAG脉冲激光氧化Cr膜的微观结构进行了分析。在较小的激光能量作用下,所得到的氧化物薄膜均匀生长;当激光能量较高时,氧化物薄膜呈小丘状生长模式。薄膜表面形成的纳米尺寸的楔型晶界将对下一步的刻蚀产生不良影响,这是由于较低温度下进行的激光氧化会引起较低的扩散速率和初始应力释放。小丘状氧化物生长是在较高激光能量下较高温度使Cr离子向外扩散的结果。 展开更多
关键词 材料表面和界面 激光加工 薄膜 表面 微观结构 晶体生长 扩散
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连续模型处理高剥离态离子在金属表面的能量获得
13
作者 慕宇光 王瑞金 +1 位作者 刘向东 马玉臣 《分子科学学报》 CAS CSCD 1996年第3期248+245-248,共5页
当高剥离态离子接近清洁金属表面时,表面上的电子由于强库仑相互作用会从金属表面转移到带有高电荷的离子上.这个电子转移过程可以用一速率方程确定,其中速率常数与高剥离态离子所带净电荷数,以及离子与金属表面的距离有关.由于金... 当高剥离态离子接近清洁金属表面时,表面上的电子由于强库仑相互作用会从金属表面转移到带有高电荷的离子上.这个电子转移过程可以用一速率方程确定,其中速率常数与高剥离态离子所带净电荷数,以及离子与金属表面的距离有关.由于金属表面的镜象势的作用,高剥离态离子在金属表面附近会受到加速作用而获得能量.本文采用经典镜象势,用数值方法处理了确定电子转移的速率方程,计算了高剥离态离子在金属表面的能量获得,计算结果与两组实验数据比较吻合. 展开更多
关键词 高剥离态离子 电子输运 表面和界面
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Pd纳米催化剂在选择性加氢中的研究进展
14
作者 陈浦 《广州化工》 CAS 2024年第1期27-29,32,共4页
选择性加氢在化学工业中占有十分重要的地位,在精细化学品和石油化工产品生产、药物合成以及农用化学品的合成中都有重要应用。Pd基催化剂由于其独特的电子结构和吸附活化氢及不饱和底物的能力,在选择性加氢反应中得到了广泛的应用。本... 选择性加氢在化学工业中占有十分重要的地位,在精细化学品和石油化工产品生产、药物合成以及农用化学品的合成中都有重要应用。Pd基催化剂由于其独特的电子结构和吸附活化氢及不饱和底物的能力,在选择性加氢反应中得到了广泛的应用。本文综述了Pd基催化剂的尺寸、组成、表面和界面结构对其性能的影响,并介绍了Pd基催化剂在炔、醛、酮和硝基芳烃选择性加氢反应中的研究进展。 展开更多
关键词 选择性加氢 Pd纳米催化剂 尺寸 组成 表面和界面效应
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隐藏高分子界面及生物界面分子结构的和频振动光谱研究(英文) 被引量:6
15
作者 陈战 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第3期504-521,共18页
界面的分子结构决定界面的性质.为了以优化界面的结构来改进材料的性质,原位实时地研究界面的分子结构是很重要的.近年来和频振动光谱已发展成为一个很有效及独特的手段来研究隐藏界面的分子结构,例如液/液界面、固/液界面及固/固界面等... 界面的分子结构决定界面的性质.为了以优化界面的结构来改进材料的性质,原位实时地研究界面的分子结构是很重要的.近年来和频振动光谱已发展成为一个很有效及独特的手段来研究隐藏界面的分子结构,例如液/液界面、固/液界面及固/固界面等.这篇综述讨论了和频振动光谱在研究高分子界面及生物界面等复杂界面的分子结构上的应用.具体说来,本文论述了高分子表面在水里的分子结构变化,高分子及模型粘合促进剂硅烷在界面相互作用的分子机理和隐藏的高分子/高分子及高分子/金属界面的结构.另外,此文还将介绍不同二级结构的多肽及几个有代表性的蛋白分子在界面的结构.界面在诸如化学、生物、物理、材料科学及工程和纳米技术等许多领域都很重要.发展一个独特的能原位研究隐藏界面的分子结构的技术会有力地促进这些领域的研究及跨学科研究的发展. 展开更多
关键词 高分子表面和界面 生物界面 多肽 蛋白质 粘合 二级结构 a-螺旋 b-折叠
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第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛10月在武汉召开
16
《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期16-16,共1页
由中国机械工程学会表面工程分会主办的第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛定于2008年10月10~13日在武汉召开。大会主题是:中国表面工程的创新与挑战。
关键词 表面工程 表面和界面 学术论坛 武汉 湖北 会议 青年
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配体对功能自组装薄膜的光致电子转移特性的影响(英文) 被引量:2
17
作者 韦天新 史环环 +3 位作者 黄春辉 于小峰 黄慧忠 吴念祖 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1077-1084,共8页
A strategy for fabricating the functionalized self-assembled films is proposed. Through the comparison of three self-assembled films of 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid (PTA) with different connecting ligands, i... A strategy for fabricating the functionalized self-assembled films is proposed. Through the comparison of three self-assembled films of 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid (PTA) with different connecting ligands, i.e. oxalic acid (Ox), succinic acid (Su), or terephthalic acid (Tp), it was found that the optimal system was composed of oxalic acid, Ce4+ and 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid,which was much better than simple covalent connecting PTA films and the connecting ligands played an important role for the properties of self-assembled (SA) films. All these films were characterized by contact angle, UV spectra, cyclic voltammetry and XPS. The photocurrent generation of the best system were 5 706, 7 345 nA·cm-2, respectively, being among the highest values of dye-sensitized indium tin oxide (ITO) systems. The effects of light intensity, bias voltage, and electron donor on photoinduced electron transfer properties were also studied. The possible mechanism of electron transfer is proposed. 展开更多
关键词 薄膜 表面和界面 光电转换 光伏
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Al靶中稀土Y含量对薄膜CrAlTiN的影响 被引量:1
18
作者 刘兆政 刘耀辉 +1 位作者 蒋百灵 于思荣 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期840-843,共4页
研究了Al靶中加入不同含量的稀土Y对CrAlTiN薄膜的影响。应用SEM、EDS、XPS、显微硬度计对薄膜样品进行分析。结果表明,在Al靶材中加入稀土Y后,不但提高了薄膜的厚度,而且随着稀土Y含量的增加,薄膜的表面相逐渐由CrN、Cr2N向Cr变化,Al... 研究了Al靶中加入不同含量的稀土Y对CrAlTiN薄膜的影响。应用SEM、EDS、XPS、显微硬度计对薄膜样品进行分析。结果表明,在Al靶材中加入稀土Y后,不但提高了薄膜的厚度,而且随着稀土Y含量的增加,薄膜的表面相逐渐由CrN、Cr2N向Cr变化,Al的含量也是随着Y含量的增加而增加。CrAlTiN薄膜的硬度随着稀土Y含量的升高而降低,并且随着Y含量的升高而逐渐趋于1500 HV。 展开更多
关键词 材料的表面和界面 磁控溅射 稀土Y SEM XPS
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Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征
19
作者 殷景华 蔡伟 +2 位作者 王明光 郑玉峰 赵连城 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1068-1070,共3页
在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中... 在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构. 展开更多
关键词 Pt/Au/p-Si 薄膜 硅化物分布 表面和界面结构
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膜厚对三元混晶双层系中声子极化激元模的影响
20
作者 包锦 梁希侠 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期401-406,共6页
采用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,运用电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了薄膜厚度对由极性三元混晶组成的双层薄膜系统中的表面和界面声子极化激元的影响.以GaAs/AlxGa1-xAs双层系统为例,获得了其中表面和界面声子极化... 采用改进的无规元素等位移模型和玻恩-黄近似,运用电磁场的麦克斯韦方程和边界条件,研究了薄膜厚度对由极性三元混晶组成的双层薄膜系统中的表面和界面声子极化激元的影响.以GaAs/AlxGa1-xAs双层系统为例,获得了其中表面和界面声子极化激元作为膜厚之函数的数值结果并进行了讨论.结果指出:在双层系统的六支表面和界面声子极化激元模中,当两种薄膜材料的厚度均变化时,只有三支界面声子极化激元的频率随之变化,而另外三支表面声子极化激元的频率则几乎不变.而当只有其中一种薄膜材料的厚度发生变化时,则只对其与另一种薄膜材料界面处且位于此种材料的纵横光学声子频率区间内的界面极化激元的频率有影响,而对其他的表面和界面极化激元的频率则没有太大的影响. 展开更多
关键词 表面和界面声子极化激元 三元混晶 双层薄膜系统
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