期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
大调制度表面正弦图形制作工艺研究
被引量:
1
1
作者
孙光宇
毕晓川
+4 位作者
洪义麟
徐向东
霍同林
付绍军
张新夷
《光学技术》
CAS
CSCD
1999年第3期17-18,共2页
表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。为了得到调制深度大于10μm光刻胶表面正弦图形,采用激光全息光刻的方法,固定曝光条件,同时保证曝光量足够,然后通过控制显影条件来实现起伏深度的变化。成功得...
表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。为了得到调制深度大于10μm光刻胶表面正弦图形,采用激光全息光刻的方法,固定曝光条件,同时保证曝光量足够,然后通过控制显影条件来实现起伏深度的变化。成功得到了调制深度分别为15μm,25μm,35μm,周期分别为20μm。
展开更多
关键词
全息方法
大调制度
表面正弦图形
制作工艺
原文传递
题名
大调制度表面正弦图形制作工艺研究
被引量:
1
1
作者
孙光宇
毕晓川
洪义麟
徐向东
霍同林
付绍军
张新夷
机构
中国科技大学国家同步辐射实验室
出处
《光学技术》
CAS
CSCD
1999年第3期17-18,共2页
文摘
表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。为了得到调制深度大于10μm光刻胶表面正弦图形,采用激光全息光刻的方法,固定曝光条件,同时保证曝光量足够,然后通过控制显影条件来实现起伏深度的变化。成功得到了调制深度分别为15μm,25μm,35μm,周期分别为20μm。
关键词
全息方法
大调制度
表面正弦图形
制作工艺
Keywords
sine shaped surface
holography
分类号
TB877 [一般工业技术—摄影技术]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大调制度表面正弦图形制作工艺研究
孙光宇
毕晓川
洪义麟
徐向东
霍同林
付绍军
张新夷
《光学技术》
CAS
CSCD
1999
1
原文传递
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部