稀氢氟酸中硅表面氢终端的原位拉曼光谱研究

本文用共焦显微拉曼系统原位观察了Ｓｉ（１００）表面氢终端原子在稀氢氟酸中的变化过程。研究表明：在硅片浸入氢氟酸溶液的初期，表面主要被硅和三个氢原子的结合体（ＳｉＨ３）以及硅和两个氢原子的结合体（ＳｉＨ２）所覆盖。随着腐蚀过程的延长，ＳｉＨ３越来越少，ＳｉＨ２的信号不断增强，并且，硅和单个氢原子的结合体（ＳｉＨ）的信号也开始出现。最终，硅表面主要被ＳｉＨ２所覆盖，有少量ＳｉＨ３和ＳｉＨ键。本文还表明。