神光Ⅲ精密光学元件表面广义洁净度检测

根据神光Ⅲ实验样机里的精密光学元件表面实际特点,提出了综合考虑其表面疵病和颗粒残留物的广义洁净度概念及其检测方法,阐述了广义洁净度的含义并提出了具体计算过程。研究了适合多种元件尺寸的检测装置,并利用图像里面不同组织具有不同灰度级实现图像分割,通过提取检测对象的几何、灰度及变换域空间的特征,构成待检测向量,采用支持向量机(SVM)方法进行识别。广义洁净度概念的提出和实现过程,对实际监测精密光学元件表面的质量并分析其损化变迁过程具有重要意义。

基于多学科优化的大口径光学元件表面洁净度检测系统

基于机器视觉的图像处理方法突破了检测区域的尺寸限制,能满足大口径光学元件表面洁净度检测的需要,但存在光、机、电耦合问题。采用多学科设计优化方法处理学科间的耦合关系,建立了学科间耦合关系和学科耦合分析模型,实现了学科协调;分析了光学系统设计、运动系统设计、结构设计、图像拼接、图像处理和洁净度计算等多学科子系统实现的关键点,建立了满足检测要求的检测系统。

光学元件表面洁净度对其表面散射特性的影响

针对光学系统在实际工作中元件表面污染粒子对光的散射问题,以空气中Al2O3污染粒子为例,基于米氏散射理论,模拟和分析了元件表面双向反射分布函数(BRDF)随散射角的变化规律,进而定量计算了元件表面全积分散射值(TIS)。在此基础上,进一步分析了影响表面洁净度的三个主要因素(空气洁净度、工作面朝向和曝露时间)对元件表面BRDF及其TIS值的影响。结果表明,空气洁净度等级、工作面放置方向和曝露时间等对元件表面散射量的影响均较为明显。其中,工作面的放置方向对元件表面的散射影响尤为突出,水平向上放置(TIS=1.93×10^(-4))较之垂直放置时(TIS=8.07×10^(-5))散射量增大一个量级,而较之工作面水平向下放置时(TIS=3.12×10^(-6))增大两个量级。最后,以卡塞格伦望远镜为例,针对其主镜的污染容限问题,分析了不同空气洁净度条件下主镜表面洁净度达到污染容限所用的曝露时间,可为实际工作中污染控制和保证系统对微弱目标信号的有效探测提供参考。

用红外光谱技术测量表面洁净度

在一种材料的加工过程中，可能需要对材料表面的洁净度（杂质的数量）进行测量。例如，在给一个表面涂底漆、上漆和封接时，验证一下表面洁净度是否符合要求，对于保证油漆、底漆或密封层与表面之间充分粘附是有用的．

墨西哥希尔萨公司连铸薄板坯表面质量和内部洁净度的改善

由于对汽车用钢的质量要求不断提高,墨西哥希尔萨(HYLSA)公司重新检查了其LF冶金和连铸工艺。本文讨论了该公司提高钢质量所采取的措施。

储存时间对表面洁净度样品检测结果的影响

本文通过对不同存储时间表面洁净度样品进行检测，确定了表面浩净度样品如不能及时检测时，可将样品置于4～8℃冰箱冷藏，16h内检测，检测前需将样品做短暂回温。

包装材料对硅片表面洁净度的影响

前言 随着微电子技术突飞猛进的发展，90纳米线宽技术已得到了规模推广，一个芯片已集成至几十到上百亿个元器件。与此同时，图形的微细加工和以提高生产效率为目的的大直径硅片生产进程也在加快进行，电路特征尺寸已由微米级升级到亚微米及纳米级水平，这使得所有的IC造商对衬底硅片的要求越来越严格。

高功率激光放大器片腔洁净度实验研究

在氙灯放电泵浦过程中 ,放大器片腔内材料在高强度氙灯光辐照下 ,存在显著的热解过程 ,产生大量的微米级悬浮粒子。在两种实验条件下对粒子数进行了测量 :一是放大器氙灯泵浦结束之后悬浮粒子的自然消散过程 ;二是氙灯泵浦结束之后利用大气流量的超纯氮气冲洗片腔之后的粒子数测量。研究结果表明 ,正常情况下 ,氙灯泵浦结束后片腔洁净度达到了 1 0～ 50万级气溶胶的水平 (在粒子直径≥ 0 .5μm的水平上 )。

400 mm口径4×2组合式片状放大器在线洁净度实验研究

在氙灯放电泵浦过程中,片状放大器片腔内材料在高强度氙灯光辐照下,存在显著的热解过程,产生大量的μm级悬浮粒子。针对放大器在线洁净度控制,采取了包括选用有利于洁净控制的材料、消除盲孔与焊缝、深度酸洗刻蚀、高压喷淋清洗和最终的光照清洗等系列有效措施。实验研究结果表明:经过100发次光照清洗,片腔内气溶胶颗粒处于300~1000之间,接近美国国家点火装置(NIF)洁净水平;发次运行完成后,利用约0.4 m/s的氮氧混合气体对放大器腔体进行吹扫,气溶胶颗粒在2 min内可恢复至0值。

洁净室内工作活动对光学表面洁净质量的影响因素分析

洁净室作为一个复杂且庞大的系统,其洁净度会对产品的合格率产生较大的影响。在洁净室的各硬件配套都达标的情况下,日常生产过程中,人员和设备运行则是影响洁净室洁净度的主要因素。通过对某光学元件加工制造的ISO 5级洁净室进行洁净度的监测,探讨洁净室内工作活动对光学表面洁净质量的影响规律。

不锈钢超高洁净度检测工作平台的建立

鉴于低温超流氦工作系统的实际需要,在国内首次建立起了不锈钢材料表面(超)高洁净度检测系统。探索和提出对重要主辅材料的纯化和循环使用简便实用的工艺和方法,克服了国产检测介质和辅助材料的不纯带来的困难,完成了国家重大国际合作项目不锈钢组、零件表面洁净度的检测任务,为今后我国不锈钢材料表面(超)高洁净度检测工作提供了有益的经验。

轧后带钢表面清洁度研究

文章针对邯钢2180酸轧联合机组,分析了该生产线影响带钢表面洁净度的4个重要因素,并就乳化液参数、轧制工艺、轧辊特性和酸洗参数4要素对轧后带钢表面清洁度的影响做了详细论述,有针对的提出了改善乳化液参数、轧辊粗糙参数、优化轧制工艺,提高酸洗质量等改进建议和有效措施,对提高轧后带钢表面清洁度有现实指导意义。

浅谈涂装洁净度管理

0引言 涂装在汽车冲焊涂总四大工艺中洁净度要求最为严格。从最初厂房设计到最终投产及后期维护，洁净度管理一刻都不能放松、汽乍涂装一般分3个涂层：电泳、中涂、面涂（色漆＋罩光清漆），涂装过程中涂层表面一旦受到污染，将严重影响整年外观以及空间的打磨成本。

基于洁净度控制的IF钢精炼工艺优化

针对IF (Interstitial Free)钢冷轧板缺陷发生率较高的问题,在历史生产数据分析和工业试验基础上,以钢水洁净度控制为目标,优化了钢包渣改质工艺、确定了合适的RH合金化后钢水净循环时间、钢水静置时间。结果表明,工艺优化后,钢包渣FeO含量可稳定控制在10%以下;钢水洁净度提高明显,全氧含量可以稳定控制在30 ppm以下,平均为24.3 ppm;由Al2O3基夹杂物引起的冷轧板缺陷发生率由优化前的平均0.78%降低到优化后的平均0.62%。

影响IF钢洁净度的典型夹杂物来源

摘要:夹杂物对IF钢成形性能和表面质量产生重要影响,典型夹杂物的来源问题一直是汽车板冶炼的关注重点。本文通过对冲压开裂和表面质量试样的分析,并对IF钢冶炼全流程夹杂物的数量和类型进行了分阶段统计,研究了添加中包覆盖剂的过程对钢中夹杂物的影响,总结了影响IF钢洁净度的过程因素,认为除防止保护渣卷入外,对顶渣改质、控制大包下渣和优化中包覆盖剂的加入方式是IF钢洁净度控制的三个关键环节。

加工硬化对1.14C-12.72Mn钢铁路辙叉表面剥落的影响

高锰钢1.14C-12.72Mn铁路辙叉有良好的加工硬化特性,但使用时常因心轨表面龟裂剥落而提前失效。从辙叉断面的分析表明,辙叉表面剥落为腐蚀疲劳失效所致,表面组织中所有的Al2 O3和铝酸钙等夹杂物,加工硬化后表面高硬度和产生的致密滑移带降低了高锰钢的耐腐蚀疲劳性能,同时随高锰钢在使用过程表面硬度大幅度提高,使钢的韧性和塑性明显下降,导致辙叉表面剥落。提高钢的洁净度,加入Ni,Cu等耐腐蚀元素和进行微合金化提高钢的抗断裂韧性是防止辙叉表面剥落的主要措施。

等离子体处理对ITO表面化学镀铜的影响

由于常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工序。通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层。实验结果表明,处理距离越短对减小水接触角、提高清洁度和附着力越有利;而等离子体功率和处理时间对基板表面状态的影响不是单调的。因此通过选择合适的等离子体功率、处理时间和处理距离,可以获得附着力好、清洁度高的化学镀铜层。

氟化物溶液腐蚀后硅表面形态的STM与XPS研究

利用扫描隧道显微技术(STM)和X 射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si(111)在几种不同比例的NH4F HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明在较高pH值的NH4F HCl溶液中被腐蚀的Si(111)表面粗糙度较小,且表面洁净度及化学稳定性较好.

复杂光机系统机械结构件表面高压水射流量化清洗工艺研究

基于高压水射流喷淋清洗工艺,理论分析了不同高压水射流喷淋清洗工艺条件下机械结构件表面颗粒污染状态,给出表征颗粒污染物定量去除的数学表达式,并理论计算了高压水射流喷淋参数对机械结构件表面颗粒污染移除率的影响规律。结果表明:高压水射流喷淋流量、压强和喷淋面积对颗粒污染物的移除效率影响较大,并通过实验验证了不同高压喷淋清洗工艺对光机模块表面洁净度影响的数学表达式。经过验证,理论结果与实验结果符合较好。

包晶钢连铸板坯表面质量的控制

包晶钢凝固时处于包晶区(L+δ→γ),发生δ_(Fe)→γ_(Fe)转变,有较大的体积收缩,导致初生坯壳不均匀,在薄弱处应力集中而产生裂纹。通过提高钢水的洁净度、稳定结晶器钢液面控制、优化结晶器、保护渣、二次冷却等工艺参数可以有效控制包晶钢连铸板坯表面缺陷的发生。