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纯铜双层辉光离子渗镍研究 被引量:7
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作者 袁庆龙 苏永安 徐重 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期40-42,共3页
介绍了采用双层辉光离子渗金属技术在纯铜表面制备Cu Ni合金层的新方法 ,讨论了Cu Ni合金层的组织、成分和性能特点 ,分析了辉光放电条件、源极溅射率及表面金属势对Cu Ni合金层形成过程的影响。试验结果表明渗层厚度及渗层质量与辉光... 介绍了采用双层辉光离子渗金属技术在纯铜表面制备Cu Ni合金层的新方法 ,讨论了Cu Ni合金层的组织、成分和性能特点 ,分析了辉光放电条件、源极溅射率及表面金属势对Cu Ni合金层形成过程的影响。试验结果表明渗层厚度及渗层质量与辉光放电条件有关 ,在保证渗金属温度的前提下 ,应尽可能提高源极电压 ,降低试件电压。此外 ,该工艺还具有渗速快、效率高。 展开更多
关键词 纯铜双层辉光离子渗镍 耐蚀性 传导性 源极溅射率 表面金属势 表面合金化
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