图案化蓝宝石衬底的制备方法及关键技术分析

图案化蓝宝石衬底(Patterned Sapphire Substrate,PSS)是近几年来发展起来的一种用于提高LED出光率的新技术。本文就图案化蓝宝石衬底提高GaN基LED出光率的作用原理、表面微结构(几何形状及尺寸)对LED发光效率的影响以及图案化衬底制备的关键技术进行了分析,包括掩膜的制备和图形的转移技术,以及蓝宝石图案化衬底制备的两种主要方法:干法刻蚀和湿法腐蚀,并比较了这两种制备方法的优缺点,最后指出纳米级图案化蓝宝石衬底是未来的重点发展方向。

基于不同衬底材料高出光效率LED芯片研究进展

提高LED芯片的出光效率是解决LED光源大功率化和可靠性的根本。根据LED芯片所用衬底材料的不同,总结了近年来提高GaN基LED出光效率的研究进展,介绍了新的设计思路、工艺结构与制备方法。并从材料结构和衬底选取方面,对LED芯片未来的发展趋势进行了展望。

硅/锗量子点空间分布的有序性及其制备技术

随着纳米技术的进步,量子点纳米材料在理论和实验研究方面受到越来越多的关注。由于量子点阵列优异的物理性能与其空间分布的有序性十分相关,空间分布有序量子点阵列的大面积重复性制备已成为高性能纳米光电子器件商业化应用的关键。近几十年来,在量子点空间排列分布有序性的提高、缺陷态的减少、成核位置可控以及大面积重复制备方面人们已做了大量研究。本文主要讨论和综述当前在制备空间分布有序硅/锗(Si/Ge)量子点方面的技术工艺和成果,并展望其未来技术发展思路和方向,希望为今后进一步探索研究大面积空间分布有序Si/Ge量子点阵列的制备提供信息参考。