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基于裁剪区的地图注记自动压盖处理技术 被引量:1
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作者 徐青 魏斌 +1 位作者 何列松 汶建龙 《测绘科学技术学报》 CSCD 北大核心 2013年第6期629-632,637,共5页
地图注记与图形同色压盖关系处理是地图出版编辑的重要内容之一。本文引入了绘图设备的裁剪区原理,建立了注记裁剪区及其分色对应表模型,基于"图层-要素-图元"地图文档结构,实现了一种自动计算注记裁剪区范围并压盖同色线划... 地图注记与图形同色压盖关系处理是地图出版编辑的重要内容之一。本文引入了绘图设备的裁剪区原理,建立了注记裁剪区及其分色对应表模型,基于"图层-要素-图元"地图文档结构,实现了一种自动计算注记裁剪区范围并压盖同色线划和填充点符的处理方法。该方法可快速更新裁剪区,快速检索分色对应表,在每次地图绘制过程应用裁剪区。较传统的图形剪断、蒙版等方法,该方法具有不增加地图文档存储数据量,压盖效果好,不限制地图出版编辑工序的特点。 展开更多
关键词 裁剪区 注记压盖 地图图元 分版印刷 出版处理
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VC++高效无闪烁绘制大数据量图形 被引量:2
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作者 李杨 徐洁 王春海 《电脑编程技巧与维护》 2014年第2期19-20,26,共3页
在VC++绘图中,经常会遇到显示效率不高、重绘时闪烁的问题,特别是对成像等大数据量数据重绘时显示速度慢、闪烁更加频繁。分析了上述问题存在原因,详细介绍了利用MFC提供的裁剪区提高重绘效率和采用内存设备环境绘制图形解决屏闪的具体... 在VC++绘图中,经常会遇到显示效率不高、重绘时闪烁的问题,特别是对成像等大数据量数据重绘时显示速度慢、闪烁更加频繁。分析了上述问题存在原因,详细介绍了利用MFC提供的裁剪区提高重绘效率和采用内存设备环境绘制图形解决屏闪的具体方法,绘图效率有突破性提高,屏闪现象得到有效控制。 展开更多
关键词 VC++语言 大数据量数据 绘图 裁剪区 屏闪
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一种大数据量森林场景组织及其实时绘制方法 被引量:5
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作者 李建微 陈崇成 +1 位作者 余轮 李晓雯 《系统仿真学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第24期5722-5725,共4页
针对森林场景建模的复杂性和大数据量等特点,并在对比分析各种场景组织算法的基础上,阐述了采用八叉数结构(Octree)来组织森林场景的流程,提出了层次包围盒+线性边缘检测的预裁剪算法,并将该算法应用于大数据量森林场景的实时绘制;文中... 针对森林场景建模的复杂性和大数据量等特点,并在对比分析各种场景组织算法的基础上,阐述了采用八叉数结构(Octree)来组织森林场景的流程,提出了层次包围盒+线性边缘检测的预裁剪算法,并将该算法应用于大数据量森林场景的实时绘制;文中还对实验结果进行分析,得出了八叉树结构对场景不同划分深度对绘制效率影响的规律。实验结果证明层次包围盒+线性边缘检测的预裁剪算法的具有实用性和通用性等特点,特别适合均匀分布的场景数据的组织和实时优化绘制。 展开更多
关键词 森林场景 大数据量 场景数据组织 八叉树 实时绘制 视见裁剪
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一种基于ARCT的抗辐射加固器件结构设计
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作者 李遨宇 李同合 邵志标 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2013年第4期67-70,共4页
本文在探索半导体器件辐射损伤效应与机理的基础上,研究了通过器件的优化设计达到抗辐射加固性能要求的有效方法.基于0.18μmCMOS工艺条件,利用DVINCI三维器件模拟软件,建立了具有较好抗辐射性能的FD-SOI/MOSFET器件的加固模型,并提出... 本文在探索半导体器件辐射损伤效应与机理的基础上,研究了通过器件的优化设计达到抗辐射加固性能要求的有效方法.基于0.18μmCMOS工艺条件,利用DVINCI三维器件模拟软件,建立了具有较好抗辐射性能的FD-SOI/MOSFET器件的加固模型,并提出了一种新型有源区裁剪(ARC)的双多晶硅栅结构晶体管.通过模拟辐射环境下器件的工作情况,证明该种结构具有很强的抗总剂量辐射的能力. 展开更多
关键词 抗辐射加固 总剂量效应 单粒子效应 DVINCI模拟 双栅有源裁剪
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