改良西门子法多晶硅工厂还原装置的设计

目前,世界上主要采用改良西门子法生产工艺制备多晶硅,多晶硅还原单元是改良西门子法生产工艺的一个重要环节,还原单元设计的优劣对多晶硅的质量和成本有着重要影响,本文将根据设计经验并结合实际生产操作,对多晶硅还原单元的工艺系统设计、装置布置等进行介绍,以期对多晶硅生产和多晶硅还原单元设计及布置提供参考。

离子膜烧碱装置设计浅析

烧碱工业大多采用隔膜法和水银法制碱,但是这两种方法耗时、耗能且收率较低,目前已逐渐被离子膜法取代,对原有装置的设备布置和管道布置因此需要进行全新的设计。此外,还需要根据烧碱工业的规范要求及实际场地状况对装置相对位置及安全距离进行合理安排。设计中还要将所用的化学制剂的所有性质考虑在内,进行较为完善的综合性设计,以保证离子膜法烧碱装置能够安全稳定、长期有效地运转。