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OGS触控显示模组一体黑技术研究
被引量:
2
1
作者
张卫
王庆浦
+3 位作者
徐佳伟
曾琴
谢涛峰
郭总杰
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第10期969-976,共8页
OGS(One Glass solution)触控显示模组(Touch Panel LCD Module,TLCM)在关机状态下存在边缘黑色光阻(Black Matrix,BM)与可视区色差过大的问题,外观不美观。本文基于此问题,对TLCM的膜层结构进行研究,分析出影响产品色偏的主要因素。首...
OGS(One Glass solution)触控显示模组(Touch Panel LCD Module,TLCM)在关机状态下存在边缘黑色光阻(Black Matrix,BM)与可视区色差过大的问题,外观不美观。本文基于此问题,对TLCM的膜层结构进行研究,分析出影响产品色偏的主要因素。首先,利用光学模拟软件模拟不同叠层和膜层厚度的OGS色偏情况。接着,根据模拟结果找出影响单体OGS色偏的主要叠层。然后,参考模拟结果设计几十种不同膜层参数进行实验验证,并结合设备测试和人眼判级找出最佳一体黑效果。结果表明:在特定叠层结构中,消影层(Index Match Film,IM)对一体黑效果影响最大,其中有双消影层的样品可视区与BM区色差值约1NBS,单IM层的产品色差在3.7NBS以上。
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关键词
触
控
显示
模
组
色偏
OGS
BM
IM
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职称材料
柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备
2
作者
闫国栋
雷国伟
+4 位作者
王鑫鑫
高淑珍
解江涛
隋曦
白杰
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2023年第22期1-7,共7页
针对ITO(氧化铟锡)薄膜所制作的触控模组存在明显蚀刻痕迹而严重限制其下游广泛应用的问题,首先根据薄膜光学理论计算得到带消影层ITO薄膜(Nb2O5/SiO2/ITO)在5个特征波长处达到最佳消影效果的膜层厚度,再用TFCLAC光学软件验证该带消影层...
针对ITO(氧化铟锡)薄膜所制作的触控模组存在明显蚀刻痕迹而严重限制其下游广泛应用的问题,首先根据薄膜光学理论计算得到带消影层ITO薄膜(Nb2O5/SiO2/ITO)在5个特征波长处达到最佳消影效果的膜层厚度,再用TFCLAC光学软件验证该带消影层ITO薄膜在500~780 nm可见波段的光学消影效果,最后通过卷对卷磁控溅射法制造该带消影层的ITO薄膜,继而制成触控模组,以验证其蚀刻痕迹的改善效果。结果表明:最佳带消影层ITO薄膜中Nb2O5、SiO2和ITO层的厚度分别为10、48和42 nm。该带消影层ITO薄膜在蚀刻前后的反射率差在1%~2%之间,色差较小,平均透过率达到85.64%,方阻为84.70Ω。该带消影层薄膜制作的触控模组上几乎看不见蚀刻痕迹,可满足严苛的视觉要求。
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关键词
氧化铟锡薄膜
磁
控
溅射
蚀刻痕
消影层
触控模组
反射率
色差
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职称材料
题名
OGS触控显示模组一体黑技术研究
被引量:
2
1
作者
张卫
王庆浦
徐佳伟
曾琴
谢涛峰
郭总杰
机构
合肥鑫晟光电科技有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第10期969-976,共8页
文摘
OGS(One Glass solution)触控显示模组(Touch Panel LCD Module,TLCM)在关机状态下存在边缘黑色光阻(Black Matrix,BM)与可视区色差过大的问题,外观不美观。本文基于此问题,对TLCM的膜层结构进行研究,分析出影响产品色偏的主要因素。首先,利用光学模拟软件模拟不同叠层和膜层厚度的OGS色偏情况。接着,根据模拟结果找出影响单体OGS色偏的主要叠层。然后,参考模拟结果设计几十种不同膜层参数进行实验验证,并结合设备测试和人眼判级找出最佳一体黑效果。结果表明:在特定叠层结构中,消影层(Index Match Film,IM)对一体黑效果影响最大,其中有双消影层的样品可视区与BM区色差值约1NBS,单IM层的产品色差在3.7NBS以上。
关键词
触
控
显示
模
组
色偏
OGS
BM
IM
Keywords
touch display module
color bias
OGS
BM
IM
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备
2
作者
闫国栋
雷国伟
王鑫鑫
高淑珍
解江涛
隋曦
白杰
机构
陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
出处
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2023年第22期1-7,共7页
文摘
针对ITO(氧化铟锡)薄膜所制作的触控模组存在明显蚀刻痕迹而严重限制其下游广泛应用的问题,首先根据薄膜光学理论计算得到带消影层ITO薄膜(Nb2O5/SiO2/ITO)在5个特征波长处达到最佳消影效果的膜层厚度,再用TFCLAC光学软件验证该带消影层ITO薄膜在500~780 nm可见波段的光学消影效果,最后通过卷对卷磁控溅射法制造该带消影层的ITO薄膜,继而制成触控模组,以验证其蚀刻痕迹的改善效果。结果表明:最佳带消影层ITO薄膜中Nb2O5、SiO2和ITO层的厚度分别为10、48和42 nm。该带消影层ITO薄膜在蚀刻前后的反射率差在1%~2%之间,色差较小,平均透过率达到85.64%,方阻为84.70Ω。该带消影层薄膜制作的触控模组上几乎看不见蚀刻痕迹,可满足严苛的视觉要求。
关键词
氧化铟锡薄膜
磁
控
溅射
蚀刻痕
消影层
触控模组
反射率
色差
Keywords
indium tin oxide film
magnetron sputtering
etching mark
index-matched layer
touch panel sensor
reflectance
color difference
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
OGS触控显示模组一体黑技术研究
张卫
王庆浦
徐佳伟
曾琴
谢涛峰
郭总杰
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2019
2
下载PDF
职称材料
2
柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备
闫国栋
雷国伟
王鑫鑫
高淑珍
解江涛
隋曦
白杰
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2023
0
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职称材料
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