计算机辅助照射野验证软件的设计与开发

照射野验证 ( PIV)是实施精确放射治疗质量保证 ( QA)的关键步骤之一 ,为了定量分析摆位误差 ,提高照射野验证的准确性和可视性 ,在 Windows95操作系统平台上 ,采用 C+ +编程技术 ,设计开发了 PIV应用软件。PIV软件通过提供图像处理工具、多种融合显示方式可以有效提高照射野验证的可视性 ,半自动的照射野影像登记算法能够提高定性验证的准确性 ,对于规则照射野可以给出精度较高的定量分析结果。它具有分析处理的手段多、灵活、分辨率高的特点 。

控制软件设计与验证计算机辅助系统

介绍了控制软件设计与验证系统的原理与实现过程 ,给出顺序功能图[1] (Se quentialFunctionCharts,即SFC)需求说明语言到系统Petri网模型的转化算法和系统几种异常现象的验证算法 ,讨论了系统实现的若干关键技术 。

计算机X线摄影在放射治疗照射野验证中的应用

目的 :探讨利用计算机X线摄影 (CR)技术拍摄放射治疗病人模拟定位片和射野验证片的价值。方法 :使用成像板 (IP板 )和自制特殊装置 ,分别拍摄放疗病人带中心刻度的模拟定位片和加速器射野验证片 ,根据片中人体解剖标记比较二片中心移位误差并控制 ,二片用专用口袋保存 ,数字化图像连同病人详细放疗资料进行计算机管理。结果 :病人共 86例 ,图片 2 77张 ,模拟定位片和射野验证片较清晰显示照射野形状、大小、治疗中心以及与人体解剖标记之间的关系。肿瘤病人均使用固定装置 ,治疗中心移位误差头颈部 x =(2 4± 0 9)mm ,胸体部 x =(2 9± 1 1)mm。结论 :利用CR技术拍摄放疗病人模拟定位片和射野验证片 ,成像满意 ,操作简便 ,作为放射治疗质量控制的方法具有推广价值。

检验治疗计划系统是否支持楔形旋转照射野一个方法

目的:验证治疗计划系统是否支持楔形旋转照射野(楔形旋转野)这一概念。方法:将楔形旋转照射野等效成多个固定楔形野,比较两者的剂量分布等。结果:用Varian公司的Cadplan(6.4.7版)三维治疗计划系统作的两计划比较,剂量分布几乎相同。结论:Cadplan(6.4.7版)等三维治疗计划系统支持这一概念。

计算机辅助照射野验证技术的研究

目的 为改善放射治疗照射野验证的可视性、提高照射野验证的准确性和定量分析摆位误差 ,寻找一种切实可行的方法 ,为临床照射野验证工作提供有效的工具。方法 设计开发Win dows应用软件PIV ,在软件中提供了多种图像分析工具 (如图像增强、融合显示 )、半自动的照射野影像登记算法并可以报告定量的误差分析结果。结果 应用一组已知误差的参考图像与照射野图像对PIV软件的准确性进行评估 ,对于规则照射野使用软件进行验证其准确度平移可达 2 .5mm ,旋转可达1.5°,误差纠正后的照射野覆盖率≥ 96 .5 % ;对于不规则照射野验证时要注意将定量分析结果与融合显示的图像相结合 ,以发现由于照射野形状不同而产生的误报。结论 计算机辅助照射野验证技术可以有效提高照射野验证的可视性 ,半自动的照射野影像登记算法提高了定性验证的准确性 ,对于规则照射野可以给出精度较高的定量分析结果 ,是临床照射野验证的有力工具。

标记迁移系统的组合可达性分析

标记迁移系统是一种在计算机辅助设计和验证中得到广泛使用的形式模型。当系统中的模块比较多时,系统的整体模型有可能出现状态空间的指数级爆炸,组合可达性分析是缓解这一问题的一种有效方法。已有的工作缺乏对该方法基本原理的清晰描述和精确表达。本文对其基本原理进行了分析和概括,并作了形式化陈述,证明了相关结论。本文的工作有助于深入理解和澄清组合可达性分析的内部工作机制。

设计反射面均匀照射物体

在设计艺术品展览的光照系统设计中 ,笔者探讨了均匀光照的方法 ,总结出一个反射面设计的数学模型。以此方法设计反射面 ,布置灯光照明 ,使得照射在周围物体上的光线强度处处相等 ,均匀照明物体 ,分析设计均可简化到平面中的曲线方程。同时研究了用VC

数字化X线摄影系统拼接图像的可靠性探讨

目的:探讨数字化X线摄影系统拼接图像的可靠性。方法:对照组:X线球管中心线对模型1标尺的中点标记进行垂直摄影,照射野包含标尺的两侧标记,摄影距离120cm,物-台距离3.5cm。实验组:选用倾斜角度摄影和平行移动摄影,分别进行两幅和三幅拼接图像的摄影,每次摄影照射野应包含对应标尺的标记,摄影距离120cm,物-台距离3.5cm;然后将相应图像裁剪拼接。评价拼接图像的标尺长度与单幅摄影时标尺影像长度与放大率是否存在差异。结果:标尺影像长度为(39.557±0.382)cm,放大率为(1.130±0.001)。采用单因素方差分析(ANOVA),实验组和对照组的标尺影像长度差异无统计学意义(F=2.359,P=0.056);采用Welch检验,模型影像放大率与标尺影像放大率差异无统计学意义(W=69.600,P=0.126)。结论:倾斜角度摄影和平行移动摄影的拼接图像与单幅摄影图像的放大率基本一致。倾斜角度摄影比平行移动摄影更能显示X线解剖结构的一致性。数字化X线摄影系统人工拼接图像能真实、客观显示人体影像信息,操作方便、可靠,为临床提供准确影像资料。

基于PHP的课件查询系统的设计与实现

针对不同学生对课件的需求不同 ,介绍了一种交互式课件查询系统的设计与实现。详细描述了PHP ,MySQL ,ApacheWebServer在Linux平台上组建该系统的优越性 ,以及采用这种组合进行系统构建时用户的身份验证和查询结果的分页显示程序。

计算机导航精确度及其在骨科中的应用

随着计算机辅助手术技术的发展，计算机导航越来越多地被应用到骨科的各个领域。计算机辅助手术的目标总体上来说主要是提高手术的准确性、减少手术中放射线的照射量、达到微创的目的以及使手术简单化。然而，由于不同的导航系统有不同的操作程序、系统需要不同的影像支持以及医生的操作习惯不同，因此找到一种适合骨科医生自己需要的导航系统是非常重要的。

鼻咽癌常规放疗中电子线L形野照射技术应用研究

目的探索一种能更好地解决鼻咽癌常规放疗中射野之间衔接问题的新方法。方法使用三维计划系统模拟鼻咽癌2D-适形放疗（CRT）或3D．CRT治疗中电子线L形野照射技术与常规放疗颈后电子线野照射技术的布野方法，进行剂量学分布比较。结果电子线L形野照射技术与颈后电子线野照射技术的靶区剂量超过6000eGy的包绕体积都达到95％以上，满足临床上肿瘤治疗的剂量需要，但颈后电子线野照射技术出现明显的剂量热点，最高剂量可达8900oGy，电子线L形野照射技术的最高剂量达7200cGy。电子线L形野照射技术的喉部高剂量范围比颈后电子线野照射技术小，前者喉部剂量超过6500cGy的体积为19．64％，后者为31．95％。结论电子线L形野照射技术在照射野之间衔接和剂量分布方面都具有较好的优势，值得临床推广应用。

选择性淋巴引流区照射与累及野照射联合化疗治疗食管癌效果分析

目的探讨选择性淋巴引流区照射(ENI)与累及野照射(IFI)联合化疗治疗食管癌的效果。方法选取江南大学附属医院2018年5月至2020年5月104例食管癌患者进行前瞻性研究,所有患者采用抽签法随机分为观察组和对照组,每组52例,观察组采用IFI靶区勾画方式,对照组采用ENI靶区勾画方式。比较两组疗效、治疗前后血清肿瘤标志物[糖类抗原50(CA50)、鳞状细胞癌抗原(SCC)及癌胚抗原(CEA)]水平、1年总生存(OS)率、不良反应发生情况及治疗后健康调查简表(SF-36)各维度评分。结果观察组总有效率90.38%(47/52),对照组总有效率84.62%(44/52),差异无统计学意义(χ^(2)=0.79,P=0.374)。两组间治疗前后CA50、CEA、SCC水平比较,差异均无统计学意义(均P>0.05);两组内治疗后CA50、CEA、SCC水平均低于治疗前,差异均有统计学意义(均P<0.05)。观察组1年OS率为94.23%,对照组为90.38%,两组OS差异无统计学意义(χ^(2)=0.54,P=0.462)。观察组急性放射性食管炎发生率低于对照组,差异有统计学意义(P<0.001);治疗后两组SF-36量表生理机能、生理职能、躯体疼痛、精神健康、精力、社会功能、情感职能、一般健康状况评分比较,差异均无统计学意义(均P>0.05)。结论ENI与IFI均为食管癌患者有效治疗手段,两种靶区勾画方式患者生命质量无显著差异,但IFI方案患者急性放射性食管炎发生率更低。

^(60)Co外照射微机治疗计划系统

为了使60Co多野外照射在体内剂量分布合理,适应当前中小放疗单位之经济人力情况。

窄条野旋切式照射胸壁及内乳

本文为利用TEM MS90型寻迹式（TRACKING）?Co治疗机在英国伦敦皇家自由医院所作的研究。借助计算机控制的?Co治疗机动态照射胸璧和内乳淋巴结。研究在Aldenson。“Rand”体模内进行。 本研究利用窄条野旋切式照射胸壁和内乳,给出靶区形状的曲面形剂量分布。照射野的设定。

Y2K解决方案

２０００年问题的解决目标就是“２０００年就绪（Ｙ２ＫＲｅａｄｙ）”。ＩＢＭ对其有一个专业的定义：任何一个“２０００年就绪”的系统必须满足以下两个方面：（１）对于所有可能日期，经过操作处理后均能得到期望的结果；（２）从２０世纪向２１世纪过渡的时候，所有...

印制电路与集成电路

Y2002-63306-618 03094923英寸 InP 衬底上的0.1μm InGaAs/InAlAs/Inp 高电子迁移率晶体管毫米波集成电路可靠性=High relia-bility of 0.1μm InGaAs/InAlAs/InP HEMT MMICs on3-inch InP substrates[会,英]/Chou,Y.C.& Leung,D.//2001 IEEE International Confefence on IndiumPhosphjde and Related Materials.—618～621(E)