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气体电子倍增膜(GEM)探测器的读出方式 被引量:8
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作者 郑晓翠 李玉兰 +1 位作者 来永芳 李金 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期89-92,共4页
作为一种新型微单元结构气体探测器,GEM探测器具有许多优势,其中之一就是其读出方式灵活多样。标准不同,读出方式的分类亦不相同。根据读出方式的不同原理,将GEM探测器的读出方式分为四种,分别介绍了这四种读出方式的基本原理,结构及工... 作为一种新型微单元结构气体探测器,GEM探测器具有许多优势,其中之一就是其读出方式灵活多样。标准不同,读出方式的分类亦不相同。根据读出方式的不同原理,将GEM探测器的读出方式分为四种,分别介绍了这四种读出方式的基本原理,结构及工作过程,并对它们各自的优缺点作了比较。 展开更多
关键词 GEM 读出方式 TFT CCD CMOS
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采用RE-TM材料的光记录-磁读出方式
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作者 根本広明 嵯峨秀树 +2 位作者 助田裕史 高桥正彦 王 飞 《信息记录材料》 2002年第2期40-46,62,共8页
以TbFeCo为主的稀土族-过渡金属(RE-TM)合金,能够很容易地获得很大的垂直磁各向异性,适于高密度磁记录。对采用该材料的介质,应用与HDD(硬盘驱动器)同样的磁读出方式进行读出。记录方式采用基于光照射的高温消磁型热磁记录方式。该... 以TbFeCo为主的稀土族-过渡金属(RE-TM)合金,能够很容易地获得很大的垂直磁各向异性,适于高密度磁记录。对采用该材料的介质,应用与HDD(硬盘驱动器)同样的磁读出方式进行读出。记录方式采用基于光照射的高温消磁型热磁记录方式。该记录方式应用于磁光盘(MO)的写入。根据磁记录膜的磁特性,靠单一的磁性膜不易同时采用这些记录方式和读出方式。通过磁性膜多层化的方法解决了这个难点。磁读出方式与磁光读出方式相比,读出分辨率有很大提高,具有实现远超磁光盘记录密度的前景。 展开更多
关键词 RE-TM材料 光记录-磁读出方式 稀土族-过渡金属合金 光记录 读出 磁性多层膜
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基于场效应管开关阵列的GEM探测器读出方式
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作者 郑晓翠 李玉兰 +2 位作者 来永芳 李金 李元景 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期855-858,共4页
为实现探测器信号成像要求,研究一种气体电子倍增膜(gas electron multiplier,GEM)探测器的读出方法。采用印刷电路技术,将读出电极盘与场效应管的分立元件组合构成阵列,通过场效应管开关阵列,读出GEM探测器信号,并实现成像。实测表明:... 为实现探测器信号成像要求,研究一种气体电子倍增膜(gas electron multiplier,GEM)探测器的读出方法。采用印刷电路技术,将读出电极盘与场效应管的分立元件组合构成阵列,通过场效应管开关阵列,读出GEM探测器信号,并实现成像。实测表明:该方法的动态范围(最大信号与噪声高宽的比值)可达7.3×104,积分非线性小于0.324%,灵敏度为2.55 V/nC,可实现30帧/s的实时成像。该方法具有制作工艺简单、参数可调、成本低等优点,为随后采用厚膜技术及薄膜场效应管技术读出GEM探测器提供了重要的设计依据。 展开更多
关键词 信号成像 读出方式 气体电子倍增膜 探测器 场效应管 开关阵列
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SSI接口的绝对值角度编码器值的读出方法研究 被引量:19
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作者 张子蓬 王淑青 刘辉 《工业控制计算机》 2005年第12期4-5,共2页
精密和大型机械自动化设备和系统中姿态测量常常用到绝对值角度编码器,其输出有时需要连接到多个不同的独立测控系统,接口共享方式往往是较难解决又不得不解决的问题。针对SSI接口的绝对值角度编码器,提出了一种伴随读出方式读取绝对值... 精密和大型机械自动化设备和系统中姿态测量常常用到绝对值角度编码器,其输出有时需要连接到多个不同的独立测控系统,接口共享方式往往是较难解决又不得不解决的问题。针对SSI接口的绝对值角度编码器,提出了一种伴随读出方式读取绝对值角度编码器值的方法,实现了信号的并行读取。并给出了硬件设计和软件设计的思想和方法。 展开更多
关键词 SSI接口 绝对值角度编码器 伴随读出方式 传感器 工作原理
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Ge薄膜特性及其在光子计数成像系统中的应用 被引量:9
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作者 赵菲菲 赵宝升 +4 位作者 张兴华 李伟 邹玮 赛小锋 韦永林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期3236-3240,共5页
利用电子束真空蒸镀方法制作了Ge薄膜,用作感应读出方式光子计数成像系统的电荷感应层,研究了石英玻璃衬底和陶瓷衬底上Ge薄膜的结构特征、表面形态以及各种工艺参数对薄膜电阻的影响。X射线衍射(XRD)测试表明,两种衬底上沉积的Ge薄膜... 利用电子束真空蒸镀方法制作了Ge薄膜,用作感应读出方式光子计数成像系统的电荷感应层,研究了石英玻璃衬底和陶瓷衬底上Ge薄膜的结构特征、表面形态以及各种工艺参数对薄膜电阻的影响。X射线衍射(XRD)测试表明,两种衬底上沉积的Ge薄膜均为立方相非晶态。场发射扫描电子显微镜(FESEM)图像表明石英玻璃衬底上的薄膜致密平整,陶瓷衬底上的薄膜比较粗糙,厚度较薄时,陶瓷晶界处薄膜不连续导致电阻较大。通过改变沉积速率、薄膜厚度及采用退火的方法可以控制薄膜电阻。对比了采用不同阻值电荷感应层时系统的性能,发现阻值对探测器的分辨率影响小,对计数率影响较大。 展开更多
关键词 薄膜光学 电荷感应层 电子束蒸发 光子计数成像 电荷感应读出方式
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