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空间热梯度辅助的热调制反射光谱 被引量:4
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作者 窦红飞 陆卫 +3 位作者 陈效双 戴宁 史国良 沈学础 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期93-96,共4页
给出一种新的通过空间热梯度辅助的热调制反射光谱方法,其关键是在空间光谱方法基础上加一热场梯度,无需对材料进行通常空间调制方法的特殊处理.将该方法应用于典型半导体材料GaAs,清晰地观察到GaAs材料的带间跃迁E0和其... 给出一种新的通过空间热梯度辅助的热调制反射光谱方法,其关键是在空间光谱方法基础上加一热场梯度,无需对材料进行通常空间调制方法的特殊处理.将该方法应用于典型半导体材料GaAs,清晰地观察到GaAs材料的带间跃迁E0和其它诸如E0+Δ0、E1、E1+Δ1的高能带跃迁. 展开更多
关键词 调制反射光谱 空间微分 反射 热梯度 砷化镓
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组合离子注入导致非对称耦合双量子阱界面混合效应光调制反射光谱 被引量:1
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作者 缪中林 陆卫 +10 位作者 陈平平 李志锋 刘平 袁先漳 蔡炜颖 徐文兰 沈学础 陈昌明 朱德彰 胡军 李明乾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期721-725,共5页
用分子束外延系统 (MBE)生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合离子注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子 As+ 、 H+ 和不同注入剂量的 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱单元 ,在未经快速热退火的条件... 用分子束外延系统 (MBE)生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合离子注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子 As+ 、 H+ 和不同注入剂量的 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱单元 ,在未经快速热退火的条件下 ,于常温下测量了光调制反射光谱 ,发现各单元的子带间跃迁能量最大变化范围可达80 me V . 展开更多
关键词 非对称耦合双量子阱 组合离子注入 调制反射光谱 界面混合效应
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光调制反射光谱实验研究
3
作者 王若桢 赵明山 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1987年第3期36-40,共5页
通过室温下GaAs的PR谱与ER谱的比较,对PR谱的机理及线型分析作了有益的讨论,结果表明,PR谱具有电场调制的本质,可以用电场调制理论中的“三点法”来确定各临界点参量.
关键词 调制反射光谱 砷化镓
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半绝缘GaAs的双调制反射光谱研究 被引量:1
4
作者 刘雪璐 吴江滨 +1 位作者 罗向东 谭平恒 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第14期385-393,共9页
半导体材料电子能带结构的确定对研究其物理性质及其在半导体器件方面的应用有重要意义.光调制反射光谱是一种无损和高灵敏度的表征半导体材料电子能带结构的光学手段.光调制反射光谱中激光调制导致的材料介电函数的变化在联合态密度奇... 半导体材料电子能带结构的确定对研究其物理性质及其在半导体器件方面的应用有重要意义.光调制反射光谱是一种无损和高灵敏度的表征半导体材料电子能带结构的光学手段.光调制反射光谱中激光调制导致的材料介电函数的变化在联合态密度奇点附近表现得更为明显.通过测量这些变化,可以得到有关材料能带结构临界点的信息.然而在传统的单调制反射光谱中,激光调制信号的光谱线型拟合和临界点数目的分析往往被瑞利散射和荧光信号所干扰.本文将双调制技术与双通道锁相放大器结合,消除了瑞利信号和荧光信号的干扰,获得了具有较高信噪比的调制反射光谱信号.双通道锁相放大器可以同时解调出反射光谱信号及其经泵浦激光调制后的细微变化量,避免了多次采集时可能存在的系统误差.利用这种技术,在可见激光(2.33 eV)泵浦下,我们测量了半绝缘GaAs体材料从近红外至紫外波段(1.1-6.0 eV)的双调制反射光谱,获得了多个能带结构临界点的信息.探测到了高于泵浦能量之上的与GaAs能带结构高阶临界点对应的特征光谱信号,说明带隙以上高阶临界点的光调制反射光谱本质是光生载流子对内建电场的调制,并不是来自该临界点附近的能带填充效应.这一结果表明双调制反射光谱能够对半导体材料能带结构带隙及其带隙以上临界点进行更准确的表征. 展开更多
关键词 调制反射光谱 半绝缘GAAS 能带结构 带隙以上临界点
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调制反射光谱在晶体研究中的应用
5
作者 王海峰 许自然 《南京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第3期383-386,共4页
本文报导了用磁场调制反射光谱对磁光晶体进行的光学测量。实验结果表明,磁场调制反射光谱可有效地用于磁光晶体电子态结构的研究,从而提出了一种研究磁光材料光学特性的新的测试手段。
关键词 调制反射光谱 磁光晶体 电子态
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半导体材料深低温下的调制反射光谱研究
6
作者 徐尧洲 Y.Beaulieu J.B.Webb 《上海建材学院学报》 CSCD 1993年第3期281-287,共7页
本文在深低温(约10 K)下,对生长在(001)Insb 基板上的 In_(1-x)Al_xSb 单外延层,用调制反射光谱方法,首次进行了 E_1和 E_1+Δ_1光跃迁的光反射测量。温度范围从8 K 到300 K,组分 x 范围从0到0.55的样品的光反射测量结果,经计算机处理后... 本文在深低温(约10 K)下,对生长在(001)Insb 基板上的 In_(1-x)Al_xSb 单外延层,用调制反射光谱方法,首次进行了 E_1和 E_1+Δ_1光跃迁的光反射测量。温度范围从8 K 到300 K,组分 x 范围从0到0.55的样品的光反射测量结果,经计算机处理后,用图示出 E_1和 E_1+Δ_1随 x 值变化的关系。 展开更多
关键词 外延层 调制反射光谱 半导体材料
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GaAs/AlGaAs量子阱空间差分光调制反射光谱研究
7
作者 代作晓 赵明山 +3 位作者 陆书龙 李国华 杨秀芹 王若桢 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 2000年第4期370-371,共2页
本文报道了空间差分光调制反射光谱 ,指出了它与常规光调制反射谱的区别。与常规光调制反射光谱相比较 ,它具有更好的信噪比和灵敏度。利用该光谱方法对 Ga As/ Al Ga As量子阱的实验测量结果表明 ,空间差分光调制反射光谱具有丰富的光... 本文报道了空间差分光调制反射光谱 ,指出了它与常规光调制反射谱的区别。与常规光调制反射光谱相比较 ,它具有更好的信噪比和灵敏度。利用该光谱方法对 Ga As/ Al Ga As量子阱的实验测量结果表明 ,空间差分光调制反射光谱具有丰富的光谱结构。 展开更多
关键词 GAAS/ALGAAS 调制反射光谱 量子阱 差分
原文传递
多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限 被引量:3
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作者 李铭 张彬 +2 位作者 戴亚平 王韬 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期761-766,共6页
在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与... 在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据要求的反射率来合理提出反应离子束刻蚀误差容限指标。推导出反应离子束刻蚀误差容限的解析表达式。针对神光Ⅱ千焦拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,分析了调制结构反射镜各层加工的容许误差,确定了反应离子束刻蚀误差容限指标。研究表明:刻蚀高折射率介质的加工误差容限为35 nm;刻蚀低折射率介质的加工误差容限为62 nm。此外,还从使用需要和加工难易的角度,对刻蚀方案进行了讨论。就加工难易程度而言,优选反应离子束刻蚀方案,且采用刻蚀并残留低折射率介质的方案更容易实现。 展开更多
关键词 光学器件 光谱整形 多层介质膜光谱调制反射 微纳超精细加工 误差容限
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MOCVD生长GaN膜的光调制反射谱研究
9
作者 杨凯 张荣 +6 位作者 臧岚 秦林洪 沈波 施洪涛 郑有炓 Z.C.Huang J.C.Chen 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期188-192,共5页
采用光调制反射光谱(PR)研究了(0001)晶向蓝宝石村底上MOCVD方法生长的单晶六角GaN薄膜的室温光学性质。测得六角GaN薄膜的禁带宽度为3.400eV,对PR谱的调制机理进行了分析,发现信号来自缺陷作用下的表面电场调制。光吸收增和光... 采用光调制反射光谱(PR)研究了(0001)晶向蓝宝石村底上MOCVD方法生长的单晶六角GaN薄膜的室温光学性质。测得六角GaN薄膜的禁带宽度为3.400eV,对PR谱的调制机理进行了分析,发现信号来自缺陷作用下的表面电场调制。光吸收增和光反射谱的测量,得到3.39eV的光学吸收边和3.3eV的反射峰,证实了光调制反射光谱的结果。 展开更多
关键词 氮化镓 调制反射光谱 MOCVD生长
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CdSe膜电极在Na_2SO_3溶液中的电化学调制光谱
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作者 田建华 刘义平 +1 位作者 梁宝臣 单忠强 《南开大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期11-15,共5页
本文采用本实验室研制的 T-1 EMS电化学调制光谱仪研究了电沉积 Cd Se电极在 1 mol/ L Na2 SO3溶液中的电化学调制光谱 (EMRS)特性 .实验结果表明 ,Cd Se电极在 Na2 SO3溶液中的 EMRS具有典型的Franz-Keldysh振荡峰 .根据 Aspnes提出的... 本文采用本实验室研制的 T-1 EMS电化学调制光谱仪研究了电沉积 Cd Se电极在 1 mol/ L Na2 SO3溶液中的电化学调制光谱 (EMRS)特性 .实验结果表明 ,Cd Se电极在 Na2 SO3溶液中的 EMRS具有典型的Franz-Keldysh振荡峰 .根据 Aspnes提出的弱电场三阶微商电解液电反射理论 ,对 Cd Se电极的 EMRS进行了定量分析 ,计算出了 Cd Se电极的禁带宽度和展宽系数等相关参数 .结合 EMRS随直流偏置电位的变化 ,快速、准确地确定出 Cd Se电极在 Na2 SO3溶液体系中的平带电位值 .这些参数为研究 Cd 展开更多
关键词 CdSe膜电极 电子学参数 电化学调制反射光谱
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光栅光谱仪前置和后置分光构型下光调制反射谱应用的不同特征
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作者 詹嘉 查访星 顾溢 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS 2024年第5期615-620,共6页
光调制反射光谱因其高灵敏的特性而广泛的用于研究半导体及其表面与界面特性。基于光栅光谱仪其测量光路根据分光顺序的不同可以分为前置分光构型(暗构型)与后置分光构型(亮构型)。本文以InP/In_(0.52)Ga_(0.48)As/InP异质结外延结构为... 光调制反射光谱因其高灵敏的特性而广泛的用于研究半导体及其表面与界面特性。基于光栅光谱仪其测量光路根据分光顺序的不同可以分为前置分光构型(暗构型)与后置分光构型(亮构型)。本文以InP/In_(0.52)Ga_(0.48)As/InP异质结外延结构为例,阐述了两种光路构型的不同特点和适用条件。揭示前分光构型能很好地分离荧光谱线与调制谱线;后分光构型则有利于采用较强调制激光而有效提取荧光较弱的电子结构信息。后分光构型实验中还观察到,当使用低能量激光(1064 nm)只调制激发窄带隙的InGaAs层时,却观察到宽带隙InP的谱线形的反常现象。这起源于光生载流子的界面电场调制作用,表明界面激发的后分光构型可作为一种非接触“电调制”方法而方便地应用于宽带半导体的异质外延结构的研究。 展开更多
关键词 调制反射光谱 半导体异质结 InGaAs/InP 内建电场
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Zn_(0.95-x)Be_(0.05)Mn_xSe稀磁半导体的光谱特性分析
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作者 付奎 娄本浊 +2 位作者 孙彦清 龙姝明 黄朝军 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期135-139,共5页
为了研究稀磁半导体Zn0.95-xBe0.05MnxSe(x分别为0.05,0.10,0.15,0.20)随温度变化的光学特性,采用电场调制反射光谱、表面光电压光谱及光激发荧光光谱等测量技术,进行了理论分析与实验验证,取得了一系列数据。结果表明,除x=0.1的样品外... 为了研究稀磁半导体Zn0.95-xBe0.05MnxSe(x分别为0.05,0.10,0.15,0.20)随温度变化的光学特性,采用电场调制反射光谱、表面光电压光谱及光激发荧光光谱等测量技术,进行了理论分析与实验验证,取得了一系列数据。结果表明,除x=0.1的样品外,其它样品的能隙会随Mn掺杂摩尔分数的增加而增大,这是由价带和导电中的电子和Mn中的d层电子彼此交换的相互作用产生的微小位移所致;温度升高时跃迁信号会向低能量方向移动,则是晶格-声子散射效应增加所致。 展开更多
关键词 光谱 光学特性 电场调制反射光谱 表面光电压光谱 激发荧光光谱 稀磁半导体 硒化锌铍锰 温度
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稀掺杂GaN_xAs_(1-x)(x≤0.03)薄膜的调制光谱研究 被引量:5
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作者 王茺 陈平平 +4 位作者 刘昭麟 李天信 夏长生 陈效双 陆卫 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期3636-3641,共6页
利用室温下压电调制反射光(PzR)谱技术系统测量了N掺杂浓度为0.0%—3%的分子束外延生长GaN_xAs_(1-x)薄膜,并对图谱中所观察的光学跃迁进行了指认.在GaN0.005As0.995和GaN0.01As0.99薄膜的PzR谱中观察到此前只在椭圆偏振谱中才看到的N... 利用室温下压电调制反射光(PzR)谱技术系统测量了N掺杂浓度为0.0%—3%的分子束外延生长GaN_xAs_(1-x)薄膜,并对图谱中所观察的光学跃迁进行了指认.在GaN0.005As0.995和GaN0.01As0.99薄膜的PzR谱中观察到此前只在椭圆偏振谱中才看到的N掺杂相关能态E1+Δ1+ΔN.当N掺杂浓度达到1%时,开始在PzR谱和PR谱中观测到Γ价带的轻重空穴分裂.给出室温下GaN_xAs_(1-x)材料的临界点能量随掺杂浓度的关系图,实验结果为E+和E两个跃迁同起源于L导带提供了室温下的佐证. 展开更多
关键词 压电调制反射光谱(PzR) GaNxAs1-x薄膜 分子束外延(MBE)
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光电功能材料
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《中国光学与应用光学》 2007年第1期90-92,共3页
关键词 光电功能材料 INGAN 纳米粒子 压电调制反射光谱 纤锌矿量子阱 ZNO 氧化多孔硅 纳米吸波材料
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Photo-Corrosion of CdSe Film Electrode by Electrochemical Modulation Reflectance Spectrum
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作者 单忠强 田建华 +1 位作者 刘义平 田文娟 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2004年第4期255-258,共4页
The photo-corrosion of electrodeposited polycrystalline CdSe electrode was inhibited effectively by coating a thin layer of the conductive polyaniline (PAN) film. The relation between the performance and internal ba... The photo-corrosion of electrodeposited polycrystalline CdSe electrode was inhibited effectively by coating a thin layer of the conductive polyaniline (PAN) film. The relation between the performance and internal band structure of such film-covered PAN/CdSe electrode was studied by the electrochemical modulation reflectance spectrum (EMRS). EMRS of both CdSe and PAN/CdSe electrodes in K4Fe(CN)6/K3Fe(CN)6 solution exhibited typical France-Keidysh oscillations, by which the values of the energy gap and flat band potential were determined. The EMRS results indicated that the energy band structure of CdSe electrode was not changed after coated with PAN film, so that the photoelectrochemical characteristic of PAN/CdSe electrode was rather similar to that of CdSe electrode. 展开更多
关键词 CdSe electrode polyaniline (PAN)/CdSe electrode photo-corrosion electrochemical modulation reflectance spactrum (EMRS)
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半导体技术
16
《中国无线电电子学文摘》 2000年第5期35-43,共9页
关键词 单晶薄膜 带间跃迁 半导体技术 调制反射光谱 分子束外延 半导体薄膜 光学特性 外延薄膜 光荧光 红外物理
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