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题名光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究
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作者
周清华
胡松
杜靖
王建
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机构
中国科学院光电技术研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2016年第1期15-18,23,共5页
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文摘
为了提高光刻机调平调焦台的重复定位精度,对其调平调焦台的精度指标分解开展研究。首先,应用几何关系,建立调平调焦总指标与逻辑轴之间的关系;再应用运动学原理,建立调平调焦台通用机构的逻辑轴和物理轴之间的运动关系;接着,应用函数误差原理,建立调平调焦台的精度指标分解模型。然后,采用压电陶瓷作为驱动、柔性簧片作为导向、压电陶瓷内置电容作为传感器搭建重复定位精度要求为100 nm的实验测试平台;最后实验测试平台测试结果显示,定位精度可达到90 nm,从而验证了该光刻机调平调焦台精度指标分解模型的正确性。
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关键词
光刻机
调平调焦台
精度指标分解
函数误差原理
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Keywords
Lithography tool
Leveling and focusing stage
Accuracy assigning
Function error principle
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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