一种新型磁控溅射贵金属靶材设计

通过Ansys有限元模拟传统圆形平面磁控溅射阴极的磁场排布,分析了直径为72mm圆形平面溅射阴极靶材利用率低的原因,模拟计算得到靶材表面水平方向Bx和By磁场分布数据,以此为依据设计一种新型的圆形平面溅射磁控靶材,采用塑料绑定的方式固定贵金属靶材和特殊结构铜背板,替代传统贵金属靶材结构。测试结果表明优化后的磁控溅射靶材在保证原磁控溅射靶材的利用率的情况下,减少贵金属材料占比80%,从而了降低贵金属靶材的成本。