XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用

由宜兴市星光陶瓷研究所研发的XG-501铬缸走位剂,是一种单一添加的走位剂。它具有主盐的质量浓度低、光亮范围宽、电流效率高、操作温度低但范围宽、沉积速率快、覆盖能力优良、杂质容忍度高等优点。原来没有添加过稀土添加剂或其他添加剂的镀铬液转缸方便,添加XG-501铬缸走位剂的镀液对工件有良好的活化作用,单一开缸及补充,使用极为方便,管理容易。

复杂件滚镀光亮铜锡工艺的改进

以某羧酸盐的水溶液作为走位剂(即覆盖能力促进剂),可提高形状复杂的小零件滚镀光亮铜锡时的走位能力。改进后的镀液配方及工艺参数为:CuCN10～20g/L,游离NaCN12～24g/L,SnCl20.5～1.0g/L,Na2HPO490～100g/L,明胶0.1～0.2g/L,走位剂25～35mL/L,温度45～55°C,pH10.5～11.5,电压8～9V,电流300～350A/桶,以电解铜板为阳极。