超净高纯湿电子化学品的微污染控制技术研究

文章对超净高纯湿电子化学品微污染控制技术进行综合论述,阐明该技术对提高产品纯度和保证质量稳定性所发挥的巨大作用。文章对目前微污染控制技术中存在的纯度要求越来越高,污染来源复杂,检测技术受限等挑战进行了分析,并针对这些问题提出一系列应对策略,包括强化技术研发与创新,构建完善微污染控制体系,加强同其他方面的合作交流等,同时重视人才培养及团队建设。最后文章对今后微污染控制技术的发展进行了展望,并指出它在超净和高纯湿电子化学品中必将扮演更重要的角色。

超大规模集成电路用超净高纯过氧化氢的制备研究

采用吸附-离子交换-膜分离集成纯化制备了超净高纯过氧化氢,讨论了过氧化氢中各种树脂的温度变化、不同膜对过氧化氢中颗粒脱除的影响和过氧化氢纯化效果。此外,分析了超净高纯化学品生产中存在的问题,为今后的高纯超净化学品提出了方向。

超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术

对国内外微电子技术配套专用超净高纯试剂进行了评述

超净高纯试剂提纯方法的研究进展

超净高纯试剂是化学试剂的主要发展方向之一,工业生产与科学研究对试剂纯度的要求越来越高。针对不同的需要,出现了许多不同的试剂提纯方法。本文列举了一些高纯试剂的提纯方法,并对其针对性及优缺点作了对比。

我国超净高纯试剂的应用与发展

超净高纯试剂是微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化工材料之一,一代微细加工技术需要一代超净高纯试剂与之配套。简要介绍了国内外微电子技术中集成电路、分立器件和液晶显示器件等制作技术的现状及发展趋势,介绍了超净高纯试剂在微电子技术发展过程中的几种主要应用及关键品种,阐述了国内外超净高纯试剂的现状及发展趋势,指出了我国超净高纯试剂的技术与产业化等方面与国外存在的主要差距和主要问题,最后指出了我国近期超净高纯试剂的产业化和研发的主要方向。

石墨炉原子吸收法在电子工业用超净高纯试剂分析中的应用

研究了超净高纯试剂异丙醇中痕量镉的石墨炉原子吸收光谱测定法。制定了石墨炉原子吸收光谱法测定痕量镉的分析程序,试样经挥发浓缩,采用标准曲线法测定。石墨炉原子吸收光谱法测定超净高纯试剂异丙醇中痕量镉,较火焰原子吸收法灵敏度高,但由于超净高纯试剂异丙醇中基体比较复杂,因此在石墨炉原子吸收光谱法测定中,由基体引起的背景吸收干扰往往比较严重。为此利用氘灯进行背景校正。同时进行加标回收测定。分析测定结果令人满意。

集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用

本文根据集成电路制作技术的不同发展阶段对超净高纯试剂的不同要求,阐述了超净高纯试剂的应用、需求及发展状况。

亚沸蒸馏制备超净高纯盐酸工艺条件的研究

介绍了一种制备超净高纯盐酸的工艺路线:以优质工业盐酸为原料,经过蒸馏、过滤、洗涤、吸收、亚沸蒸馏,得到的超净高纯盐酸中主要金属离子的质量分数均小于1.0×10-10。对亚沸蒸馏提纯技术中影响产品产出速率以及产品浓度的工艺条件(包括液面温度、冷却水流量、进料速率以及进料浓度)进行了讨论。

我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展

根据集成电路等制作技术不同发展阶段对超净高纯试剂和光刻胶的不同要求,阐述了国内外超净高纯试剂和光刻胶的现状、应用及发展状况等。

超净高纯试剂的制备、检测及包装技术进展

超净高纯试剂是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一。在半导体工业中的消耗比例大致占10％-15％。超净高纯试剂制备的关键在于控制并达到其所要求的杂质含量和颗粒度。为使超净高纯试剂的质量达到要求，需要多方面的条件予以保障。简述超净高纯试剂的纯化技术、检测及包装技术进展。

浅议国内外超净高纯氢氟酸工艺技术差异

集成电路是资本密集、技术密集型行业,同时又长期遵循着著名的"摩尔定律",对企业在技术实力和研发投入上有着严苛的要求,相应对原料蚀刻剂超净高纯氢氟酸产品质量也有苛刻要求。从市场需求方面引出国内企业与国外企业的超净高纯氢氟酸质量差异,又详细对比分析了国内企业和国外企业执行标准的差异和原因以及工艺技术制备的差异,末尾结合集成电路的市场状况说明了中国超净高纯氢氟酸制备的发展趋势,以此来促进国内半导体产业的发展。

超净高纯电子化学试剂——异丙醇制备方法

本文介绍了用含量98%的工业级异丙醇经过金属离子络合剂处理、脱水处理、微滤膜过滤、多级精馏、钠滤膜过滤制备超净高纯电子化学试剂——异丙醇的制备方法。该方法制备的超净高纯异丙醇符合半导体技术的芯片及硅园片的清洗和刻蚀的要求。

超大规模集成电路的重要支撑材料——超净高纯试剂

1国内外超净高纯试剂技术发展现状 超净高纯试剂（Ultra—clean and High—purity Reagents）在国际上通称为工艺化学品（Process Chemicals），美、欧和中国台湾地区又称湿化学品（Wet Chemicals），是超大规模集成电路（IC）制作过程中的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蚀刻，另外超净高纯试剂还用于芯片掺杂和沉淀工艺。超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。

超净高纯硝酸纯化技术的研究进展

对近年来国内外超净高纯硝酸纯化技术的研究进展进行了综述,对比了普通蒸馏、精馏、减压蒸馏、亚沸蒸馏、膜分离等方法在超净高纯硝酸纯化中的优缺点,指出现阶段我国超净高纯硝酸制备技术需要克服能耗大、产品质量不稳定的缺点.阐明多种技术的集成及膜分离技术的运用,将是硝酸提纯技术的发展方向.

超净高纯硝酸纯化技术的研究

高纯度硝酸在市场上有了越来越多的需求量,简述了硝酸的提纯工艺及高纯度硝酸提纯的方法。高纯度硝酸的提纯工艺主要由:普通蒸馏、精馏、减压蒸馏、亚沸蒸馏、膜分离等。这些方法均有优缺点,需要根据实际情况进行选择。如何将几种提纯方式的优点进行集合,将超高纯度硝酸的提纯工艺达到最优化是如今研究人员讨论的重点。

亚沸蒸馏制备超净高纯盐酸工艺条件的研究

介绍了一种制备超净高纯盐酸的工艺路线，从工业优质盐酸开始，采用蒸馏、过滤、洗涤、吸收、亚沸蒸馏方法，提纯出超净高纯盐酸，其主要金属离子浓度含量均小于0.1ppb。同时针对亚沸蒸馏提纯技术，影响产品速率以及产品浓度的工艺条件，包括液体温度、冷却水流量、进料速率以及进料浓度进行了讨论。

我国超净高纯试剂市场需求及产业化前景

一 微电子技术发展现状及趋势 随着集成电路集成度的不断提高，电路的线宽越来越细。从第一个晶体管问世算起．半导体技术的发展已有多半个世纪了．现在它仍保持着强劲的发展态势，继续遵循Moore定律，即芯片集成度18个月翻一番．每三年器件尺寸缩小0．7倍的速度在发展。特别是二十世纪九十年代末以来，集成电路制作技术的竞争更为激烈．发展速度更为加快，根据2007年的国际半导体技术路线图（International Technology Roadmap for Semiconductors，ITRS）显示，90nm、

超净高纯试剂与紫外光刻胶

超净高纯试剂和紫外光刻胶作为IC生产工艺中的关键材料,随着IC生产向亚微米和深亚微米方向发展,对他们提出了新的要求。

超高纯氢氟酸的分析检测方法综述

对行业内通常使用的几种超高纯氢氟酸检测方法进行了阐述,并指出了每种检测方法的优劣性,为超高纯氢氟酸的准确检测提供依据。

我国IC产业发展对高纯塑料材料的需求

论述了我国信息产业发展对超净高纯包装及运输材料需求,以及国内外发展现状、开发应用前景等,我国目前需要在较高的起点上,通过引进消化吸收,集合制造业、加工工艺研究、检测技术等多方面的优势,进行工程化技术体系的研究,建立生产环境控制、应用测试与分析测试体系等,以便形成专业化和规模化生产。