利用PECVD快速沉积超厚类金刚石碳基薄膜技术

汽车发动机、管道防腐蚀、航空航天领域的特殊应用要求类金刚石碳(DLC)膜的厚度达到10~50μm。虽然DLC膜层越厚,其耐磨耐腐蚀等性能越好,但内应力也随之增大,制备难度增加。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是制备DLC薄膜的主要手段之一,具有沉积速率快、沉积温度低、可沉积厚膜等优点,同时能够实现形状复杂工件表面DLC膜层的沉积。本文介绍采用PECVD技术在平面工件表面、活塞环表面和管道内表面快速沉积压应力(贫Si层)和张应力(富Si层)交替的超厚DLC膜层。研究结果表明,在M2高速钢和活塞环功能面上均能沉积30μm以上的DLC膜,膜层的摩擦学性能优异;在管道内壁沉积的DLC膜厚度在10μm以上,耐蚀性能和摩擦学性能良好。总之,可以利用PECVD在不同形状的工件上快速沉积具有良好耐磨性和耐腐蚀性能的、超厚DLC膜层。