-
题名超声电化学沉积ZnO薄膜及其机理研究
被引量:2
- 1
-
-
作者
郭艳
沈鸿烈
尹玉刚
李斌斌
高超
-
机构
南京航空航天大学材料科学与技术学院
-
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第10期1638-1640,1645,共4页
-
基金
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA03Z219)
长江学者和创新团队发展计划资助项目(PCSIRT0534)
-
文摘
采用超声电化学沉积生长了c轴取向的ZnO薄膜,并与常规电化学沉积生长的ZnO薄膜进行了比较。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计研究了样品的晶体结构、表面形貌以及光学性能。结果表明,常规电化学沉积生长的ZnO薄膜为纳米柱状结构,随着沉积电压的增加,c轴取向率呈极值变化,热退火可提高这种薄膜的透射率。超声电化学沉积生长的ZnO薄膜,在1.5V低沉积电压下仍为柱状结构,但比未加超声电化学法沉积的样品具有更好的c轴取向,沉积电压增加到2.0V时样品则变为麦粒状结构,热退火后其透射率几乎不变。
-
关键词
ZNO薄膜
超声电化学沉积
C轴取向
麦粒状结构
透射率
-
Keywords
ZnO films
utrasonie electrochemical deposition
c-axis orientation
weat granular structure
tnsmlttane
-
分类号
TQ132.41
[化学工程—无机化工]
O657.32
[理学—分析化学]
-