超微粒照相干版生产技术的研究

超微粒照相干版是用于生产大规模集成电路的重要工具,在研制过程中解决了“超微粒”、“超洁净”、“超平整度”三项主要技术难关。本项研究工作曾获得北京市科学技术成果一等奖。