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VLSI用超纯水制备系统设计中的一些重点问题
1
作者
刘朋
陈为红
+1 位作者
杨宝和
王水弟
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004年第4期59-60,共2页
介绍了清华大学微电子学研究所VLSI用超纯水系统在设计过程中的一些特殊要求和遇到的重点问题。该系统在两级反渗透、电连续去离子、真空膜脱氧、高纯材料的使用、超痕量分析技术以及上位计算机监控等方面都代表了当今超纯水技术的先进...
介绍了清华大学微电子学研究所VLSI用超纯水系统在设计过程中的一些特殊要求和遇到的重点问题。该系统在两级反渗透、电连续去离子、真空膜脱氧、高纯材料的使用、超痕量分析技术以及上位计算机监控等方面都代表了当今超纯水技术的先进水平。
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关键词
超
纯水系统
电连续去离子
技术
真空膜脱氧
技术
超痕量分析技术
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职称材料
题名
VLSI用超纯水制备系统设计中的一些重点问题
1
作者
刘朋
陈为红
杨宝和
王水弟
机构
清华大学微电子学研究所
出处
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004年第4期59-60,共2页
文摘
介绍了清华大学微电子学研究所VLSI用超纯水系统在设计过程中的一些特殊要求和遇到的重点问题。该系统在两级反渗透、电连续去离子、真空膜脱氧、高纯材料的使用、超痕量分析技术以及上位计算机监控等方面都代表了当今超纯水技术的先进水平。
关键词
超
纯水系统
电连续去离子
技术
真空膜脱氧
技术
超痕量分析技术
分类号
TU991.2 [建筑科学—市政工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
VLSI用超纯水制备系统设计中的一些重点问题
刘朋
陈为红
杨宝和
王水弟
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004
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