多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限

在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据要求的反射率来合理提出反应离子束刻蚀误差容限指标。推导出反应离子束刻蚀误差容限的解析表达式。针对神光Ⅱ千焦拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,分析了调制结构反射镜各层加工的容许误差,确定了反应离子束刻蚀误差容限指标。研究表明:刻蚀高折射率介质的加工误差容限为35 nm;刻蚀低折射率介质的加工误差容限为62 nm。此外,还从使用需要和加工难易的角度,对刻蚀方案进行了讨论。就加工难易程度而言,优选反应离子束刻蚀方案,且采用刻蚀并残留低折射率介质的方案更容易实现。

ZnO 薄膜集成加速度传感器

本文讨论了一种集成化的悬臂梁ＺｎＯ薄膜及超高输入阻抗运算放大器为基本组成部分的加速度传感器

光谱调制反射镜的数控加工控制结构函数

在千焦耳拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用经光学微纳超精细加工而成的电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据加工精度来合理设计数控加工的控制结构函数以及加工刻蚀深度结构函数。针对神光Ⅱ千焦耳拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,推导出数控加工的控制结构函数及其刻蚀深度结构函数,并通过数值模拟计算,分析了调制结构反射镜逼近调制函数的效果及其光谱调制特性。

关于飞秒近场显微术的研究

简要评述了当前热门研究———飞秒脉冲激光用于近场光学显微镜的研究进展,主要介绍了一种结合飞秒脉冲激光器和近场光学显微镜、具有飞秒时间分辨率和纳米空间分辨率的新型设备,及其在飞秒近场光谱学、超精细修复和加工、微纳米超快开关等多个前沿领域的应用。对可能出现的问题和其发展前景也进行了初步的分析。

大能量177.3 nm真空紫外激光研究

真空紫外(波长短于180 nm)全固态激光(VUV-DPL)凭借其光子能量高及可满足精密化和实用化需求等优势在谱仪和光电子显微镜等领域中有广泛应用。此外,大能量VUV激光可用于超精细加工,成倍提高加工精度,也可作为大型光刻机的种子激光源。因此,为了扩大VUV-DPL的应用范围,我们研究了高脉冲能量177.3 nm VUV激光。