聚苯乙烯超薄薄膜制备

研究以苯乙烯为初始原料 ,通过自由基本体聚合为聚苯乙烯 ;经付克烷化反应 ,使聚苯乙烯芳环上的氢亲电取代为磺酸基、羧酸基等亲水端基 ,从而将聚苯乙烯改性为两亲分子 ;再利用单分子成膜法制备纳米级聚苯乙烯超薄薄膜的制备工艺。研究了压膜和提膜速度、温度及高靶压等工艺条件对超薄薄膜成膜性能的影响 ,用原子力显微镜表征了聚苯乙烯超薄薄膜的形貌。 2

高强超薄薄膜料7000F长周期生产探索

从工艺、设备等方面对生产高密度聚乙烯产品7000 F的难点进行了统计分析,主要存在质量不稳定、低聚物量大、易堵塞工艺管线、离心机故障率高、己烷汽提塔系统易堵塞、造粒困难等问题,并对此提出了相应对策。通过技术改造、优化工艺参数等手段,使7000 F生产周期在1个月以上,基本达到了长周期稳定生产的目的。

用于电子器件的有机超薄薄膜

本文从实用的观点评论了有机超薄薄膜在磁带介质的润滑、非线性波导的结构以及有机分子的外延生长方面的研究工作，由此可见，新型功能有机超薄膜的开发对未来的电子器件是一件必不可少的研究课题。

MgO和Si上NbN超薄薄膜的生长研究

我们在单晶MgO(100)、Si(100)和SiOx/Si基片上成功生长了纳米厚度的超薄NbN薄膜,利用现代分析手段:X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)等技术分析研究了所制备的超薄NbN薄膜的微观结构、厚度、表面界面情况等物理特性。研究表明,在MgO(100)基片上获得了外延生长的单晶NbN超薄薄膜,在Si(100)和SiOx/Si基片上获得的是多晶NbN超薄薄膜。厚度均约6nm左右。这些超薄薄膜的超导转变温度分别为:MgO上薄膜是14.46K,Si和SiOx上薄膜分别是8.74K和9.01K.

红外测厚技术在超薄薄膜和多层共挤薄膜生产线上的应用

由于传统的贝它（Beat）技术、伽玛（Gamma）技术和X射线（X—ray）技术，在测量超薄薄膜厚度时技术不完善，更无法测量多层共挤材料中阻隔层的厚度。NDC近红外技术利用不同材料对近红外光具有不同吸收波长的原理，可测量多层共挤材料每一层的厚度；NDC近红外专利技术抑制了光学条纹干涉（OFI）的影响，能高精度、高分辨率、无任何放射性地测量超薄薄膜的厚度。

红外测厚技术在超薄薄膜和多层共挤薄膜生产线上的应用

由于传统的贝它(Beat)技术、伽玛(Gamma)技术和X射线(X-ray)技术，在测量超薄薄膜厚度时技术不完善，更无法测量多层共挤材料中阻隅层的厚度。NDC近红外技术利用不同材料对近纪外光具有不同吸收波长的原理，可测量多层共挤材料每一层的厚度；NDC近红外专利扳术抑制了光学条纹干涉(OFI)的影响，能高精度、高分辨室、无任何放射性地测量超薄薄膜的厚度。

HDPE超薄薄膜的试制

论述了在70年代装置上开发出分子量高、分子量分布宽的共聚型HDPE超薄薄膜树脂J1056F的工业化制备技术,总结出一套较成熟的适合本装置特点的串联聚合工艺,用该工艺制备的树脂其物理、机械性能和加工性能与国外同类产品的先进水平相当。

芬欧蓝泰推出超薄薄膜及废料回收计划

芬欧蓝泰最近面向美国市场推出了一款针对纸基标签的超薄、可回收聚丙烯覆膜材料——ProLiner PP30。

对SJ-65型吹塑机进行技术改造用来生产LDPE超薄薄膜

本文主要介绍对普通吹塑机进行技术改造 。

美科学家成功制取纳米级聚乙烯超薄薄膜

来自Konstanz大学的研究学者们开发了一种制造超薄薄膜的新工艺，这种工艺对于科学家和工程师们来说具有深远意义。

亚太地区推出新型超薄薄膜

近日，亚太地区推出RafSqueeze新型超薄薄膜。RafSqueeze新型薄膜有两大特点：一是降低总应用成本，二是减少包装材料。这两大特点对标签印刷商和品牌所有者管理供应链及价值链都具有重大意义。

超薄薄膜的近红外（NIR）检测技术

用可见光和近红外（NIR）的光谱分析来检测电子硅片上涂层的厚度已有数十年的历史，这种方法所使用的设备费用超过10万美元。通过不断改进，Filmetrics公司推出了一种光谱反射厚度测量仪（Spectral Reflectance Thickness Gauge），价格约1万美元。

基于柔性太阳能电池和超薄水凝胶薄膜的手势识别

人们在日常生活中会用到各种各样的手势,如何将不同的手势与现有的智能可穿戴设备等结合起来对生活质量的提升有不可或缺的作用,利用太阳能相关设备的光电转换特性可以很好地解决手势识别和设备能耗问题。在柔性太阳能电池与手势识别结合的研究中,采集了5种常用手势数据,进行了Z-Score、低通滤波、滑动窗口等信号处理方法,并利用随机森林、支持向量机和神经网络等对其进行分类,成功地在小样本的基础上实现了100%的预测精度,可以证明该方法在手势识别的应用中有显著优势。

超薄金属基电磁屏蔽玻璃研究进展

电磁屏蔽玻璃是国防、民生等领域的重要应用材料,但是电磁性能和光学性能往往难以兼顾提升。超薄金属基透明电磁屏蔽薄膜是电磁屏蔽玻璃领域常用的功能性材料。本文对超薄金属基电磁屏蔽玻璃的屏蔽设计原理进行了详细阐述,重点综述了降低超薄金属薄膜阈值厚度的方法,回顾了近年来不同结构的超薄金属基电磁屏蔽玻璃的光学及电磁屏蔽性能,并对电磁屏蔽玻璃的未来发展趋势进行了讨论。

超薄Ni_(81)Fe_(19)薄膜的各向异性磁电阻及磁性能

利用磁控溅射方法制备了一系列超薄Ta(5nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)磁性薄膜。着重研究了基片温度、缓冲层厚度对Ni81Fe19薄膜各相异性磁电阻(AMR)及磁性能的影响。利用X射线衍射仪分析了薄膜结构、晶粒取向;用四探针技术测量了薄膜的电阻率和各向异性磁电阻;用FD-SMOKE-A表面磁光克尔效应试验系统测量了薄膜的磁滞回线。结果表明:在基片温度为400℃时制备的Ni81Fe19薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场,薄膜最大各向异性磁电阻为3.5%,最低磁化饱和场为739.67A/m。基片温度为500℃制备的薄膜,饱和磁化强度Ms值最大。随着缓冲层厚度x的增加,坡莫合金薄膜的AMR值先变大后减小,在x=5nm时达到最大值。

超薄石墨烯薄膜的制备及其超级电容器性能的研究

通过真空抽滤的方法得到了超薄的、可独立存在的还原态的氧化石墨烯薄膜(RGO)。该石墨烯薄膜表现出良好的柔性和机械强度。在三电极体系下,把石墨烯薄膜作为超级电容器电极,测试了其电化学性能,所测得的电化学曲线具有典型的双电层电容器的特点。在2mV/s的扫速下比电容值最高可以到达215.6F/g,同时石墨烯薄膜也呈现出良好的化学稳定性和循环性能。

揭示超薄薄膜生长机制 促进聚合物辅助纳米器件构建——国家973计划项目"超导纳米线单光子检测应用基础研究"研究成果

材料、能源、信息是现代社会必不可少的三大要素,是对社会发展起着重要作用的三大支柱,其中材料为这三大"支柱"的根本.而薄膜材料是属于材料领域的重要分支,被广泛应用于现代生活中的各个领域,是直接决定科技未来走向的基础,尤其是器件应用的关键.同时,薄膜材料因其独特的"功能性"——物理性能、化学性能、生物性能而被科学家们广泛研究,新型的薄膜材料更是备受青睐,薄膜材料也因此在材料领域也得到了快速的发展.然而,不同厚度的薄膜对器件的性能有着重大的影响.通常太厚的半导体薄膜会严重制约着器件的效率与响应,因此,生长超薄的高质量半导体以及超导体薄膜材料是现代电子元器件及信息技术重要课题.